半導体業界の裏事情

1 ：名無しタソ：03/11/30 22:01 ID:C5hq7hk6

みんな儲かってまっか

2 ：：03/11/30 22:04 ID:/uIFkBfG

２

3 ：　：03/11/30 22:05 ID:NSMdorvI

関連スレくらい、まとめてからスレ立てろ。

例）
【ﾒﾓﾘ】エルピーダ、ルネサス等半導体産業総合スレッド part2
http://book.2ch.net/test/read.cgi/bizplus/1067524058/

4 ：関連スレ：03/11/30 22:17 ID:NSMdorvI

5 ：関連スレ：03/11/30 22:18 ID:NSMdorvI

6 ：$EL：03/11/30 22:34 ID:MaX/kw73

SELは、ツァイ博士の論文（Dr. C.C. Tsai, "Amorphous Si Prepared in a UHV
Plasma Deposition System"）もIDSとして提出していました。同文献には、
アモルファスシリコンにおける不純物の低減により電子デバイスの特性改善を
図る旨が記載されていました。
　被告サムスン側の専門家証人であるフォナッシュ博士（Dr. Fonash）は、
キヤノン文献の全文訳とツァイ文献との組み合わせにより、636特許の係争
クレームは自明であると主張しました。さらに同氏は、キヤノン文献の非翻訳
部分を開示しなかったため、審査官は先行技術に照らして636出願の非自明性を
検討する能力を著しく妨げられたと結論しました。これについて山崎氏は、
不衡平行為の口頭審理の際、このことを渋々認めながら、キヤノン文献の
全文訳を提出することは同氏にとっては「親切すぎる」ことになり、全文訳が
あれば特許庁は「より便利であったろう」と証言していました。
　結局のところ本件では、重要部分を特許庁から隠そうとする意図がかなり
強く認定されたため、結果として不衡平行為が認定されたものと理解できます。

7 ：ははは○○〇：03/11/30 23:09 ID:wC48Zd23

現在、平井駅周辺情報ページへのアクセス数は全駅中第3位です　 Up　（前回は56位でした）

みんなで一番にするまでがんばりましょー
http://www.bit-st.jp/station/sta07279.htm

(`･ω･´)ﾉ　ｶﾞﾝﾊﾞﾛｰ

平井駅を一位にしよう　本部スレ
http://tmp.2ch.net/test/read.cgi/bakanews/1063837946/l50

8 ：テスト屋さん：03/12/01 06:39 ID:mqEIf2hw

半導体テスト屋ですが、どこの業者も接待は大変みたいですね。うちの上司連中は
新しいテスターメーカー呼びつけてベンチマークさせてその都度接待受けてますが。
こっちは「こんな事やってて将来やってけるのか？」と言う不安に駆られながら仕事
してんのに上司は「今日は○○が来るらしいから午後六時からミーティング」と言って
接待してもらって喜んでますがな。

これじゃ先が思いやられる........