1 :
物好き屋さん:
どなたか、薄膜の誘電率と空孔の関係について教えていただけないでしょうか?
空孔が多いと誘電率は大きくなるのでしょうか?それとも小さくなるのでしょうか?
出来たら、誘電率についての解説もお願いします。
2 :
名も無きマテリアルさん:2001/02/22(木) 11:26
S,dとμの関数として、単純なコンデンサのモデルで考えたんじゃ駄目?
3 :
物好き屋さん:2001/02/23(金) 00:22
誘電率って物理的にどういう要因から決まるんでしょうか?
4 :
名も無きマテリアルさん:2001/02/23(金) 08:37
>>3 どの教科書にも書いてあるけど、それを聞きたいの?
噛み砕いて教えて欲しいの?
それとももっと難しい話を聞いてるの?
5 :
名も無きマテリアルさん:2001/02/23(金) 13:25
例えば、誘電体の薄膜などを作った時に、その膜のどういった要因が誘電率を左右するのか知りたいんですけど?例えば、膜の欠陥とか不純物とか?
質問の仕方が悪かったらごめんなさい。
6 :
物好きやさん:2001/02/23(金) 13:41
>>4 非常に申し訳ない、5で名前間違えてしまいました。
7 :
名も無きマテリアルさん:2001/03/24(土) 00:01
多孔体の誘電率は,何種類か傾向の違うのがあるけど
コンデンサの合成容量で考えたときの全並列の場合と全直列の場合の間に
収まるようです。マイクロクラックも誘電率に影響を与えるので注意
8 :
SiLK:2001/04/15(日) 01:10
おそらく半導体Low-K材のことを聞きたいのではないかい。
分子分極もあるけど、MPUで問題にされる周波数ではやはり空孔率だね。
空気が1でSiO2が3(荒いな〜)として空孔率50%なら誘電率は2だね
0.13ルールで2.2〜2.6だから、0.1以下はk=2以下が欲しいって思うよね
でもDUALでは多層化と細密化によって工程がより複雑になるから
絶縁膜だけのKを落としてもだめでデバイストータルでのKがより重要だと思う。
だからKを2.6から2.0とか1.8にしてもトータルではそんなにかわらん
でも市場(君たちだ)はより先端技術の製品が欲しいよね。
そこでがんばっているわけだ、われわれは。
先端は規則性多孔質シリカと思うがこれが本当に必要かどうかは?
ある意味ナノテクノロジーだからね。(ポーラス径2nmのハニカム構造膜って)
要はKと機械強度とCMP、アッシングアスペクト比のバランスだ。
孔の大きさは機械強度とリーク電流、洗浄薬剤のペネトレートを招く。
小さいほがいいよ。
9 :
au:2001/05/08(火) 23:36
Silkさん、貴殿は、もしかしてN大卒かい?違うか。
10 :
SiLK:2001/05/10(木) 23:54
違いますです、はい。
11 :
au:2001/05/11(金) 10:15
silkさん、違ってましたか。デバイス屋さんではあるみたいですね。
僕の近くに、こういうこと言うような人がいるので...。
一応、ドクターとってるらしいが、全然使えない。
では。
12 :
au:2001/05/11(金) 10:18
ちなみに、SiO2の誘電率は、4で計算するのが妥当のような気が...。
13 :
糸ようじ:2001/06/29(金) 22:53
おおざっぱに計算するときって、普通 4だよね。
Silkって、名前は聞くけどどんな分子構造なの?
14 :
名も無きマテリアルさん:2001/06/30(土) 01:11
×Silk or silk
○SiLK (登録商標)
蚕の口から吐き出される天然高分子だよ。
15 :
名無しさん@1周年:2001/06/30(土) 06:24
禁制帯幅ってどうやってもとめる?
16 :
名も無きマテリアルさん:2001/06/30(土) 16:27
分光
17 :
名も無きマテリアルさん:2001/07/02(月) 12:11
| ・ |
| ・ |
| ∬ |
| § |
| ・ |
| ・ |
| ・ |
| ・ |
| ∬ |
| § |
| |
・
・
・
・
凸!?
| ・ |
| ・ |
| ∬ |
| § |
| ・ |
| ・ |
| ・ |
| ・ |
| ∬ |
| § |
| |
・
・
・
・
凸!?
| ・ |
| ・ |
| ∬ |
| § |
| ・ |
| ・ |
| ・ |
| ・ |
| ∬ |
| § |
| |
・
・
・
・
凸!?
泡入れたら、誘電率が下がる。理屈は簡単なんだけど実際には難問続出。
ポロシティだの平均ポアサイズだのなんだのかんだの制御して
電気的特性と機械的特性と耐環境性をすべて満足させなければならない。
巨大市場に向って材料屋と装置屋が激しい競争を繰り広げていますが、さあ勝つのは誰?やっぱり毛唐?
22 :
名も無きマテリアルさん:02/03/17 22:12
ポーラスlow-kって、バリア膜が中にはいちゃって
使いもんにならなんじゃないの?
ポアとポアはあまりつながってはいけない。スポンジみたいに上から下までの穴が全部
つながってる状態は今のところNG.ただ、今のところといったのは、もっとkを下げようとしたら
どんどん中空に近い状態にしなければならないので将来はそんな可能性もあるかも。
また、ポアの中にいろんなものが入り込んで悪さをするのを防ぐためにポアのない膜を上にかぶせる
2層構造の開発がすすんでます。デバイスが試作されてるんだから「使い物に...」はありえないのでは?
結局、有機のポーラスlow-kって使われてるの?
26 :
装置屋太郎 ◆187RZS9w :02/04/22 00:06
これからだよ〜ん
>>25 26はちょっとぶっきらぼうなレスだった。スマソ
http://www.dow.com/silk/products/index.htm に書いているようにPorous-SiLKはまだDevelopment Productだが、
webサイトにProductとして書いてある以上、
大手デバイスメーカーにはサンプル供給されていると思う。
詳しく知りたければ6月のIITCのDowのブース(#303)に
逝ってみなさい。デバイスメーカーさんならね。学生さんとかは無理かも。
材料メーカーが"Product"として主張するのは自由だけど、
どこの半導体メーカーも未だ使っていないんじゃないの?
「次期主力方式」の旗を揚げながら消えていった製品が余りにも多すぎる。
もちろん、Development Productだからまだ量産には使われてないよ。
でも国内でもデバイスの試作には成功してるみたい。(これ以上は岩内)
次世代技術の半分以上が消えるのはどこの業界でも同じじゃない?
ミラーサイクルエンジンはどこいった?ロータリーは?
デジタルコンパクトカセットなんて標準化までしたし、もっと遡ればDATにLカセットw
社会主義計画経済じゃないんだから、自由に主張して競争すればいいんだよ。
そして先を見抜く目のない客はメーカーと共にあぼ〜ん。それが資本主義の開発競争とおもわれ
無機でもk<2.0のものがあるんじゃん。
31 :
装置屋太郎 ◆187RZS9w :02/04/26 00:52
k<2.0でも機械的強度を実用レベルに保てるというのがだうの主張
32 :
名も無きマテリアルさん:02/04/26 18:27
なんでこやつはダウの代弁をしてるんだ?黒ダイヤ屋かと思ってたら照る照る坊主か?
今の内から有機に切り替える準備検討をしておいたセミコンダクターと
機械屋だけが生き残れるんだろうね。
有機ポーラスLow-kが使われるのは65nmノードかららしい...
35 :
装置屋太郎 ◆187RZS9w :02/05/22 18:08
>>33 大体、無機low-kにこだわってる人の大半は「ポリマーは今まで扱ってきた物質とあまりに違う。」
というのが理由だからね。てんで有機がない。...お後がよろしいようで。
36 :
名も無きマテリアルさん:02/05/22 23:35
パイオニア精神盛んなセミコンダクターはどこだ?
社内に有機のわかる人間が多くいる会社か?
でも、有機の人間なんかセミコンダクター内じゃ日陰者かなぁ....
37 :
名も無きマテリアルさん:02/06/24 22:04
JSRのMSQ系はどうよ。でもあの液の臭いはなんなのかね。デバイス屋にはちょっとキツイヨ。
体に悪いものなのか心配になる。
38 :
装置屋太郎 ◆187RZS9w :02/06/25 19:12
JSRのMSQか...物性屋としては材料の特性が最も良いのが主流になると考えがちだが
材料の特性以外に大事なものとして、対応した装置の開発や営業活動それらを支える
資金力さらにリリースのタイミングが非常に大事なんだな。
装置の開発で言えば自力で何でもこなす黒ダイヤ屋とアンチAM●T企業総動員のだうの
一騎打ちになりそうな予感が...
他のメーカーはよっぽど材料特性で差をつけないと開発費持ち出しで終わりかも
39 :
装置屋太郎 ◆187RZS9w :02/07/08 15:11
>>8 ところで'SiLK'さんがまだ見ていらっしゃるかしりませんが、いらっしゃるならご高説賜りたい。
K effective が重要だからKを2.0や1.8にしても..とおっしゃるが、「アンサンブル」はどうよ。
40 :
名も無きマテリアルさん:02/07/09 10:47
ポーラス膜は65nmノードでも無理じゃないかな。どこも評価はしてても、今からじゃもう、装置選定、開発にはなかなか間に合わない。
大体、日本の企業でそんなにkが低いのすぐに必要ってところは無いでしょ。
現時点では、Cuだけか、low-kどっちかを単独で導入するのが手っ取り早いでしょ。
実際、いろんな膜を組み合わせて使っちゃうとほんと、実質のk値は上がっちゃうしね。
でも、そうしないと、他のプロセスとのインテグレーションできないし、プロセスは複雑になって高くなるし。。
そういう意味では、まだ、無機系のほうが扱いやすくはあるけど。黒ダイヤも名前のとおり炭素は入ってるわけで。。
とりあえず、穴なしでしばらく行くべきかな。まあ、プロセスにいくらでも金かけられる数社を除いては。
41 :
名も無きマテリアルさん:02/08/14 14:12
優良age
42 :
名も無きマテリアルさん:02/10/28 19:54
ageます、どなたかlow-kとporousに詳しい本教えてください。
当方化学系で意味がわかりません。
(^^)
とーとしてぃ(曲路率)
45 :
名も無きマテリアルさん:04/01/21 22:27
デバイスメーカーは自分じゃ何も考えられない人が多いね。全部装置屋まかせ。
材料選定から使用条件まで、全部決めてもらおうとする。
ま、そんな会社は尻すぼみ状態だね。
test
rtsp://streams.vpro.nl/pac01/18871359/surestream.rm
てすと
テスト
テスト
てすと
月曜日からのお勤めはつろうござんすが、ニュース23で久保田タソが見れることだけが楽しみでござるよな。
∧_∧
∧_∧ (´<_` )
( ´ ゝ`) / ⌒i
//E| ̄|¬ | | 最近、ますます輝いてるよな。
( ' /~`-/ ̄ ̄ ̄ ̄/ |
__ | / けごん / .| .|____
\./____/ (u ⊃
そうだな。
∧_∧
∧_∧ (´<_` )
( ´ ゝ`) / ⌒i
//E| ̄|¬ | | 流石
( ' /~`-/ ̄ ̄ ̄ ̄/ |
__ | / けごん / .| .|____
\./____/ (u ⊃
そうだな。
∧_∧
∧_∧ (´<_` )
( ´ ゝ`) / ⌒i
//E| ̄|¬ | | 流石
( ' /~`-/ ̄ ̄ ̄ ̄/ |
__ | / けごん / .| .|____
\./____/ (u ⊃
本当は山口もえはやり手だと思う。
∧_∧
∧_∧ (´<_` )
( ´_ゝ`) / ⌒i
/ \ | | あやぱん並みということですな。
/ / ̄ ̄ ̄ ̄/ |
__(__ニつ/ 武蔵丸 / .| .|____
\/____/ (u
修正だ
∧_∧
∧_∧ (´<_` )
( ´_ゝ`) / ⌒i
/ \ | |
/ / ̄ ̄ ̄ ̄/ |
__(__ニつ/ 武蔵丸 / .| .|____
\/____/ (u
修正だ
∧_∧
∧_∧ (´<_` )
( ´_ゝ`) / ⌒i
/ \ | |
/ / ̄ ̄ ̄ ̄/ |
__(__ニつ/ 武蔵丸 / .| .|____
\/____/ (u
修正だ
∧_∧
∧_∧ (´<_` )
( ´_ゝ`) / ⌒i
/ \ | |
/ / ̄ ̄ ̄ ̄/ |
__(__ニつ/ 北の湖 / .| .|____
\/____/ (u
このレスを見た人は、元スレに必ずクソワロスwwwwwwと書いてください。
おねがいします><
ああ死ねば
63 :
名も無きマテリアルさん:05/03/16 02:40:04
コソコソ書き込んでんじゃねーよ!あげてくれるわ
64 :
age:2005/12/05(月) 22:14:58
age
65 :
名も無きマテリアルさん:2006/12/26(火) 14:49:17
,,、、、、、、..,,___,,,,、、.._
,、-''"´:::::::::'''ー:::r'ー-:、;::::::~゙ヽ、
,、‐'゙:;;、-‐'::::::::::::::::、;:::::::::::::::::::::::::::::::゙ヽ、
,.、rヮ:;、‐":::::;、:::::::::::::::ヽ;::::゙ヽ、::::::::::::::::::::::::::::\ .,、、,
. i゙;,,冫'::::::::::;r:'::::::::;;、;:::::::::::゙、:::::::\:::::::::::::::::::::::;r-"、;;,,,}
,r''ゝ/::::::;r'/:::::://.!l!::::::::::';:゙、:::::::::ヽ;;::::::::::::::::{;;;;;,,,,,r-'゙'''ヽ
. /::::::/::::::/::/::::::::/// !l:l,:::::::::::';::゙、:::::::::゙、'、:::::::::::::゙'ー:j゙::::::::::::::::\
i:::::::,'::::::;':::;':::::::://:;' .!:!:';:::::::::::';:::';:::::::::::',:ヽ、::::::::::ノ;ト;::::::::::::::::::::゙,
l:::::::l::::::l::::i::::::::;':;':;' l::l::';:::::::::::i::::';:::::::::::',::::::゙'''''":ジ{:゙、::::::::::::::::'!:i
!::::::l:::::l::::!:::::::!::!:i. l::l;::';::::::::::l;::::i::::::::::::!:、;;;;;、‐゙/:::j;::゙:、::::::::::::l::j
゙、:::l゙、:::',::!::::::l::l::! ';::';::゙、::::::::l;::::!:::::::::::|:::::::::::;/:::リ.゙、:::゙、:::::::::j:j
. ゙、:!::lヾrr-;;、、l;| ゙、:゙、:゙、:::::::!:::|:::::::::::j:::::;;rン゙:::/ ';:::::i:::::::;'リ
゙'、:!::{ 'i ゙ ',.冫:、 ゙r''''T''''ンヽ、-、;;;/;r:シ":::;r' l:::::l:::::;'/
ヾ::! l ヾ'ー'゙ ヽ<:::シ`' 'r.-<::/ !:::j:::;r'
ヽ l ゙''ー-- ") .} j::;:'ジ 保守
ヽ、 、,_,,. ,.r';ゝ-‐'゙ /;ン'゙
゙''‐- 、...,,,、、.,、-‐.r''""´ /
r',r'、,゙゙ヾニi
,、r、 ,;;r!'! ゙{,, ゙'ー-、
,r'>:、rl/'ヾ>;r''7''j, ! j_ン
66 :
名も無きマテリアルさん:2008/05/19(月) 02:31:28
/´ `)⌒ヽ
, ´ ∧
/ / ∧
i (⌒ i
| /^^! l |
|| |_||||__. レ! ! l ∧
. X\仁VV 'r= | |レ'⌒Y:! ここも1年半ぶりに保守
. / ヽ.._'r ァ ノイノ | i
. / ヽ.||_ / :| ′
\xxx《=fj=《x,_ __丿 ′
/} ヽ|/: : :/ ¨‘ァヘ '.
从イ ,}: : :/ ∧: :l ', ,
/亅 / : / / : !: : : '. '.
/≧x.,___/\ノ /: :/ ,:. : :|: : : :_L|
. | i´ ヽ. ト、:/: |. ,イ:.:/ / ̄厂 ̄「∨ |
.人! r'  ̄ヽ | : \: | / |:/ / : : : : : : : : :∨
. ヽ! r‐'´\:./丿 ノ' r ,∠_⊥_,.⊥,.く
. 丶 | r). ( 亅 _,ノ: |/: : : : l :.,>‐'⌒>x.、
\ | ヽ.|─j─ r': : /: : : : :/厶ィ´ ̄| ̄ヽハ
\fぇ、_ノノイノィ,厶=、_,.イ :| , j | 丿
|__/" __人 |/_」L ⊥=‐'"
` ´ ̄ `Y´  ̄
_ ∩
( ゚∀゚)彡 おっぱい!おっぱい!
⊂彡
69 :
名も無きマテリアルさん:
ー-
ーフ
/へノ つ
,.'ゝ‐'ヽ.__,
i゙" (_,
,.. -‐=ニニニ=-..._ (
. ,ィ'",;..,; .,;';;',,';;.,;..;.;,,.:;;,.ヽ、
,.',,;;.,;';;;;;;;;;';;'l;;'l;;;;;;;;;;i;;;i;;;;;;,:ム
. ,',,;;;;;;;;;;;;;;;;;._l_l;' l;;;;;;;;;;!i;!';;;i;;;;;;;l
. ,';;;;;;;;i;;;;;l_;:-'二ヾー‐-' リ,=、!;;;;;;;i
.,';;;;;;;;;l;;;;;;| i"{zリ:ト ,.-.、ヾ、;リ
;;;;;;'⌒!;;;;;;! `.ゝ ' '{zノl.},';|
;;;;;,、_|;;;;;;;! .::::. `¨ !;;|
;;;;;;;;`;|;;;;;;| / ) .:::::. ,!;;|
;;;;;;;;;;;;| ; |ヽ、  ̄ ./!';;;| ほしゅー
;;;i;;;;;rェ;;;;;;|ー->.._,,..ィ;;;;;;'l;;,; |
;;'レ「 .!;;;;;;|:::::::::;'z.,'::;'_;;;;','; |;;;;;;;!
"ヽi! |;;;;;;;lzzzニr'__'iミi.`v゙ |;;;;;;;|
~゙ヾ| ト、;;;;;|三三三ミニi iヽー-'