【新技術】薄型シリコン膜、液体材料で形成

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1エンジン全壊 ◆BrEAKNeQmw @[´Д`] φ ★
セイコーエプソンは5日、液体材料を使ってガラスの基板上にシリコン膜を形成するのに成功したと発表した。
薄型テレビなどに搭載する薄膜トランジスタ(TFT)製造向けで、実用化すれば製造コストと日数が大幅短縮できるという。

素材メーカーのJSRと共同開発した。
水素とケイ素からなる化合物を有機溶剤で溶かして液体にする。
液体にすることでエプソンのインクジェットプリンターを使い直接基板にシリコン膜を吹き付けることが可能。

通常は原料物質を含んだガスを化学反応させて基板にシリコン膜を吸着させる「化学的気相成長法(CVD)」が一般的。
ただ、この方法は真空装置や露光装置などが必要で、TFTができるまで2週間ほどかかる。

エプソンでは液体原料とインクジェットプリンターを使ってシリコン膜を形成した場合、これらの装置が不要となるうえ、TFT製造日数も4?5時間に短縮できるという。

ソース
ttp://www.nikkei.co.jp/news/sangyo/20060405AT1D0503W05042006.html
2名無しのひみつ:2006/04/06(木) 13:16:31 ID:rtEXQUS9
中小企業での納期短縮とコスト削減に期待できるかな?

2get
3名無しのひみつ:2006/04/06(木) 13:17:48 ID:Pt5ST+wN
特許で守って、日本を環境立国にしてくらさい
4名無しのひみつ:2006/04/06(木) 13:17:59 ID:5tZTRL9f
薄型シリコン処女膜、液体材料で形成
5名無しのひみつ:2006/04/06(木) 13:20:18 ID:qTyqwaDn
>4?5時間
これなんていう意味?
6名無しのひみつ:2006/04/06(木) 13:21:34 ID:6AzkuR0n
実用化までに他国に技術盗まれるなよ
関係者にSPつけろ
7名無しのひみつ:2006/04/06(木) 13:21:39 ID:3jEgCG8j
日本人はこういう地味なことでもコツコツがんばるよな
いいことだ
8エンジン全壊 ◆BrEAKNeQmw :2006/04/06(木) 13:22:16 ID:gzk/Ns/Z BE:388476869-#
>>5
-

なんかコピペできなかった文字。
9名無しのひみつ:2006/04/06(木) 13:34:41 ID:Ry8tb71k
JSRの株価が上がりますように。
*・゜゚・*:.。..。.:*・゜(n‘∀‘)η゚・*:.。..。.:*・゜゚・*
10名無しのひみつ:2006/04/06(木) 13:47:54 ID:+kRVSsgs
4―5時間
11名無しのひみつ:2006/04/06(木) 13:48:29 ID:Nzmk6uSr
2週間から5時間に短縮って67分の1だなスゲー
12名無しのひみつ:2006/04/06(木) 13:55:30 ID:fApAPFwB
<丶`∀´>ニヤリニダ
13名無しのひみつ:2006/04/06(木) 13:59:18 ID:mXYEAk3K
製造コストが半分になるそうです。
スレタイにこれを入れないと意味がない!
14名無しのひみつ:2006/04/06(木) 15:58:01 ID:wCYHLwuB
『蒸着っ!』てシャイダーだっけ?
15名無しのひみつ:2006/04/06(木) 17:43:17 ID:xfycIT0W
にしこり
16エンジン全壊 ◆BrEAKNeQmw :2006/04/06(木) 18:15:11 ID:gzk/Ns/Z BE:143880645-#
>>14
宇宙探偵556
17名無しのひみつ:2006/04/06(木) 18:51:13 ID:4unuC4zq
それは「癒着!」だろう
18名無しのひみつ:2006/04/06(木) 21:02:38 ID:kevXhQyi
キヤノンはやるのかな。
19名無しのひみつ:2006/04/07(金) 09:41:18 ID:p8yGIzzn
肝心の水素とケイ素からなる化合物がさっぱりわからん。シラン?
20名無しのひみつ:2006/04/07(金) 11:13:12 ID:EcEW4b1c
ポリシランとシクロペンタシラン
21名無しのひみつ:2006/04/08(土) 20:12:03 ID:svxXaur8
>19
知らん。
22pureφ ★:2006/04/10(月) 13:04:45 ID:???
April 06, 2006
材料 : スプレー塗布で半導体チップが作れる液体状シリコン

 今回新たに報告されたシリコンデバイスの作製法により、多くのエネルギーを必要とし、
コストがかさむプロセス方法は過去のものとなるかもしれない。今週号で古沢昌宏たちは、
マイクロエレクトロニクスに十分応用可能な品質の結晶シリコン膜を、「液体シリコン」の
ようなものから作製する方法について述べている。この液体状シリコンは、高速回転させた
表面上に滴下して薄く延ばしたり、あるいはインクジェットプリンターから吐出させること
で表面上に塗布できる。

 シリコンチップ上にマイクロエレクトロニクスデバイスを作製するのはハイテクな作業で、
極めて毒性が高い化学物質を扱う実験室と同程度の清浄さに保たれた場所で行われる。
シリコンなどの半導体の層は通常、高真空中でチップ上に蒸着され、極微量の汚染ガスや
ちりがあれば半導体層は使い物にならなくなってしまう。

 古沢たちのシリコン「ソフトプロセス技術」は、高真空・高温、あるいは超清浄な環境は
必要としない。このプロセスからは平坦な微結晶がモザイク状に並んだ、いわゆる多結晶
シリコンができる。その電気特性は、コストがかさむ従来の方法によって作製した多結晶
シリコン薄膜に匹敵する。

 今回使われた「液体状シリコン」は、実際には、シリコン原子が短い鎖状に結合し、水素
原子にキャップされた分子からなるポリシラン系物質である。この物質を合成するのには、
5個のシリコン原子が環状に結合したシクロペンタシラン分子が出発物質として使われた。
この液体化合物に紫外光を照射すると環のいくつかが開裂し、鎖がつながってより長くなる。
次にこの混合液体をトルエンなど有機溶媒で希釈し、それを表面上に薄く延ばすか、スプ
レーで塗布する。この液体膜を500℃付近でベークすると、膜が多結晶シリコンに転換され
るのである。

http://www.natureasia.com/japan/nature/updates/index.php?id=1298&issue=7085

材料:溶液プロセスにより作製したシリコン薄膜とトランジスター
Tatsuya Shimoda, Yasuo Matsuki, Masahiro Furusawa, Takashi Aoki, Ichio Yudasaka, Hideki Tanaka, Haruo Iwasawa,
Daohai Wang, Masami Miyasakaand Yasumasa Takeuchi
Nature 440, 783-786 (6 April 2006) | doi:10.1038/nature04613
http://www.nature.com/nature/journal/v440/n7085/abs/nature04613.html

News and Views: 半導体:スプレーオンシリコン
Lisa Rosenberg
http://www.nature.com/nature/journal/v440/n7085/full/440749a.html
23 ◆IZ5DhyHhho :2006/04/18(火) 18:40:22 ID:00QrQIJr
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24 ◆Inv5J7sAz6 :2006/04/18(火) 18:41:33 ID:00QrQIJr
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25 ◆wLFGRFGx02
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