【材料】高速酸化法により低温で緻密な光学薄膜の形成に成功

ＪＳＴ（理事長 沖村憲樹）は、委託開発事業の開発課題「高速酸化法による光学薄膜の低温形成技術」
の開発結果をこのほど成功と認定しました。
（中略）
本新技術は、マグネトロン・スパッタ法で金属の極薄膜を堆積した後、引き続き酸素イオンを打ち込む
ことにより、低温で酸化物薄膜を高速堆積する技術です。金属の極薄膜を堆積する金属エリア（スパッタ
源）と堆積した極金属薄膜に酸素イオンを打ち込む酸化エリア（逆スパッタ源）を分けて、独立に制御
することにより、高速の成膜レートを維持しながらも、緻密な酸化物薄膜の成膜を可能にする大型実用
装置を開発しました。これにより、樹脂基板に４層の反射防止膜として、金属酸化物薄膜を低温・高成膜
レートで成膜することができます。
本製法により製造した反射膜は、緻密なので耐環境性に優れており、携帯機器用ディスプレイの反射
防止膜、各種光学フィルターへの利用が期待されます。

元記事
http://www.jst.go.jp/pr/info/info175/index.html

２

ほう
Arプラズマでやるのかな
でもイオンを打ち込むってことはイオンビーム法を併用？

4

ただ「低温」って、漠然としすぎ。記者は馬鹿か。

>3
ソースを見る限りプラズマは使ってなさそう

２ちゃんねらーで研究所もとうぜ。

これが出来ることでどうなるの？　おしえてエロい人！

とりあえず関連論文ﾊｯｹｿ

Metal deposition and oxygen-ion implantation for optical thin films
Vacuum, Volume 74, Issues 3-4, 7 June 2004, Pages 449-454
S. Chiba, A. Motoki, K. Fujikura and T. Hata

誰かわかりやすく解説してくれ・・・・。

難しい事を難しく説明するのは理解していない証拠。

樹脂あるいはガラスの表面に真空蒸着で透明の薄いメッキをしたあとに
酸素イオンを電子ビームで打ち込み透明な薄い膜にする。
この透明な金属酸化物は光を良く通すが、厚みを適当にすることにより
光の干渉が発生して反射を抑えることに有効である。
さらに同様の作業を繰り返すことにより、通す光の波長の範囲を広くすることも出来る。
また、逆に厚みを調整することにより特定の光の波長を通さない干渉フィルターを
製造することも出来る。この技術の良いことは今までよりも低い温度で、
酸化膜を生成できるため基盤の熱による変形を最小にすることである。

要するに、わりと大面積の樹脂基材に多層膜コートする新しい技術ってことね。
他にもいろいろ応用が効きそうだね。

>>10
スパッタ法で酸化物の膜を作る場合、
酸化物を直接飛ばして基板に堆積するのは、
金属を飛ばす場合に比べてかなり時間がかかる。
真空蒸着で作る場合は、
酸化させるために基板を加熱する必要があるので、
耐熱性の低い基板(プラスチックとか？)には向いていない。

そこで、スパッタで薄〜く金属膜を作って酸素を直接打ち込む
を繰り返すことで、加熱無しで高速成膜が可能となった。

え、メタモード？