【技術】ＡｒＦ液浸技術に対応するＬＳＩ回路原版用合成石英基板を量産化
1 ：pureφ ★：
旭硝子が半導体工程用石英基板を量産化
旭硝子は２３日、半導体製造でシリコンウエハーに転写する際に必要な光源の
１つであるＡｒＦ液浸技術に対応するＬＳＩ回路原版用合成石英基板「ＱＣ−ｉ」の
量産化に成功したと発表した。
液浸転写工程は、露光装置用レンズと、シリコンウエハーの間に純水を通し、
レンズを通過した光を大きく屈折させることでウエハーの超微細加工を可能に
するもので、今回、同工程に使用する石英基板の光の乱れを抑えることに成功し、
量産化に踏み切った。同社は、２００８年度に同分野で売上高１０億円を見込む。
(中略) 今回のＡｒＦ対応合成石英基板は、光の乱れが従来の石英基板では
４−５ナノメートルだったものを、１ナノメートル以下に抑えたほか、新規設備投資などを行わず、製造コスト削減を実現したことで、量産化も可
能にした。
FujiSankei Business i. 2004/6/24
http://www.business-i.jp/news/chemical/art-20040623202657-PJQFFWQUNU.nwc
旭硝子プレスリリース 2004.6.23
ＡｒＦ液浸用フォトマスク合成石英基板（ＱＣ−ｉ）の開発・量産化に成功(PDF 14KB)
http://www.agc.co.jp/news/2004/0623.pdf
液浸露光技術
http://www.nikon.co.jp/main/jpn/profile/technology/immersion/
旭硝子は２３日、半導体製造でシリコンウエハーに転写する際に必要な光源の
１つであるＡｒＦ液浸技術に対応するＬＳＩ回路原版用合成石英基板「ＱＣ−ｉ」の
量産化に成功したと発表した。
液浸転写工程は、露光装置用レンズと、シリコンウエハーの間に純水を通し、
レンズを通過した光を大きく屈折させることでウエハーの超微細加工を可能に
するもので、今回、同工程に使用する石英基板の光の乱れを抑えることに成功し、
量産化に踏み切った。同社は、２００８年度に同分野で売上高１０億円を見込む。
(中略) 今回のＡｒＦ対応合成石英基板は、光の乱れが従来の石英基板では
４−５ナノメートルだったものを、１ナノメートル以下に抑えたほか、新規設備投資などを行わず、製造コスト削減を実現したことで、量産化も可
能にした。
FujiSankei Business i. 2004/6/24
http://www.business-i.jp/news/chemical/art-20040623202657-PJQFFWQUNU.nwc
旭硝子プレスリリース 2004.6.23
ＡｒＦ液浸用フォトマスク合成石英基板（ＱＣ−ｉ）の開発・量産化に成功(PDF 14KB)
http://www.agc.co.jp/news/2004/0623.pdf
液浸露光技術
http://www.nikon.co.jp/main/jpn/profile/technology/immersion/
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２だ
宣伝スレいい加減やめてほしい
>>3
できたらどこがやったとか気にせずに液浸技術について語ってください
できたらどこがやったとか気にせずに液浸技術について語ってください
5 ：名無しのひみつ：04/06/24 14:45 ID:wFhpQ+w4
旭硝子か
こういうので株価上がるのか？
こういうので株価上がるのか？
6 ：名無しさん＠お腹いっぱい。：04/06/24 18:52 ID:azZEaufX
中国語みたいなスレタイだな・・・
7 ：名無しのひみつ：04/06/24 21:34 ID:ESXTz/N6
>>3
F2レーザー業界の人ですか？
F2レーザー業界の人ですか？
どれぐらい凄いことなのか教えて
現像液と一緒に落とせる液浸用トップコート材料を東京応化が開発
http://nikkeibp.jp/wcs/j/elec/317191
http://nikkeibp.jp/wcs/j/elec/317191
東京エレクトロンとＩＭＥＣ、１９３ｎｍの液浸露光技術に関して共同研究
１９３ｎｍの液浸露光技術は、４５ｎｍノード以降の半導体デバイス量産において、１５７ｎｍ露光に
代わる次世代技術になるものと予想されています。液浸露光技術とは、露光機内部のレンズとウェーハの
間に、液体を流し込んで露光を行うもので、１９３ｎｍの液浸露光では、水が最も理想的な液体として
検討されています。この新たな露光方式の導入により、ウェーハが水にさらされることによるプロセス
欠陥や、レジストへの水分浸透によるリソグラフィー性能（線幅やパターンプロファイル制御）への影響が
懸念されています。このため、多くの半導体材料メーカーはレジストと水を分離するための保護膜と液浸
プロセスに最適なレジスト材料の開発を同時に行なっており、これらの新規材料の導入によって、塗布／
現像装置の仕様やプロセスレシピにおいても、最適化が必要になります。
東京エレクトロンは、液浸プロセス導入による新たな課題に対応し、ＩＴＲＳロードマップで要求されて
いる線幅制御と欠陥制御を実現するため、ＩＭＥＣとレジストプロセスの最適化を進めていきます。ＩＭ
ＥＣとの最先端１９３ｎｍ液浸リソグラフィー技術に関する共同研究は、短い開発期間を要求されている
本技術開発において、世界に先駆けて実際に露光機を使った装置開発ができる環境となっています。（略）
http://release.nikkei.co.jp/detail.cfm?relID=76081
１９３ｎｍの液浸露光技術は、４５ｎｍノード以降の半導体デバイス量産において、１５７ｎｍ露光に
代わる次世代技術になるものと予想されています。液浸露光技術とは、露光機内部のレンズとウェーハの
間に、液体を流し込んで露光を行うもので、１９３ｎｍの液浸露光では、水が最も理想的な液体として
検討されています。この新たな露光方式の導入により、ウェーハが水にさらされることによるプロセス
欠陥や、レジストへの水分浸透によるリソグラフィー性能（線幅やパターンプロファイル制御）への影響が
懸念されています。このため、多くの半導体材料メーカーはレジストと水を分離するための保護膜と液浸
プロセスに最適なレジスト材料の開発を同時に行なっており、これらの新規材料の導入によって、塗布／
現像装置の仕様やプロセスレシピにおいても、最適化が必要になります。
東京エレクトロンは、液浸プロセス導入による新たな課題に対応し、ＩＴＲＳロードマップで要求されて
いる線幅制御と欠陥制御を実現するため、ＩＭＥＣとレジストプロセスの最適化を進めていきます。ＩＭ
ＥＣとの最先端１９３ｎｍ液浸リソグラフィー技術に関する共同研究は、短い開発期間を要求されている
本技術開発において、世界に先駆けて実際に露光機を使った装置開発ができる環境となっています。（略）
http://release.nikkei.co.jp/detail.cfm?relID=76081
10年前にまだ院生だったころ
旭硝子から転職で助教授になった人が研究室にいたけど
その当時は、旭硝子のフッ素技術は10年遅れてるといってたのに、
頑張ったんだろうか。
旭硝子から転職で助教授になった人が研究室にいたけど
その当時は、旭硝子のフッ素技術は10年遅れてるといってたのに、
頑張ったんだろうか。
12 ：名無しのひみつ：04/08/21 14:23 ID:m1D6tg66
この分野は3年あれば業界トップになれる可能性があるそうです。
と、ちょっと前のChemical and Engineering Newsに書いてありました。
と、ちょっと前のChemical and Engineering Newsに書いてありました。
液浸CCDデジカメｷﾎﾞﾝ
14 ：名無しのひみつ：04/09/05 00:28 ID:o+eLt0nq
ずっと前に、若手物理研究者のML(電総研だったか?)で、
水などの屈折率の高い液体を使って、光学波長限界を
乗り越える提案がされていたのを観た記憶がある。
水の屈折率１.5倍程度でより微細な解像が出来るということだった。
もっと密度の高い四塩化炭素とか沃素を含んだ炭化水素などを使えば、
さらに屈折率が高くできて、ダイヤモンドの鑑定に使うような高い屈折率
の液体を使えばどうだ、とかいうことが議論されてたような記憶がある。
水などの屈折率の高い液体を使って、光学波長限界を
乗り越える提案がされていたのを観た記憶がある。
水の屈折率１.5倍程度でより微細な解像が出来るということだった。
もっと密度の高い四塩化炭素とか沃素を含んだ炭化水素などを使えば、
さらに屈折率が高くできて、ダイヤモンドの鑑定に使うような高い屈折率
の液体を使えばどうだ、とかいうことが議論されてたような記憶がある。
15 ：名無しのひみつ：04/09/05 00:32 ID:fsNNhejA
>>14
炭化水素はともかく、ハロゲン化溶媒は193nmは通さないと思う。
炭化水素はともかく、ハロゲン化溶媒は193nmは通さないと思う。
16 ：名無しのひみつ：
レンズの相対的な屈折率が下がってしまうので、そこら辺をどうするのだろうか?
また、次第に水にレンズが溶けて表面の精度が落ちると思うが、水にあらかじめ
ガラス及びコーティングの成分を溶かしこんで飽和させておくというような
ことをするのかな?
また、次第に水にレンズが溶けて表面の精度が落ちると思うが、水にあらかじめ
ガラス及びコーティングの成分を溶かしこんで飽和させておくというような
ことをするのかな?