【半導体】東芝とSKハイニックスがナノインプリントリソグラフィを共同開発、15nmプロセス以降に適用 [転載禁止]©2ch.net

東芝とSKハイニックスが、ナノインプリントリソグラフィ（NIL）技術で共同開発を開始する。NILは、回路パターンが掘られた型（モールド）をシリコンウエハーに直接押し当てて転写するもので、
より微細な加工ができると期待されている。今回の共同開発では、15nmプロセス以降の実現を目指すとしている。
http://eetimes.jp/ee/articles/1502/05/news129.html

　東芝は2015年2月5日、韓国SKハイニックスと、次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ（以下、NIL）」の共同開発を行うことで正式に契約したと発表した。
同年4月から、東芝の横浜事業所においてNILプロセスの要素技術の共同開発を開始し、2017年の実用化を目指す。

　NILは、メモリの微細化を進める上で必要になる、次世代半導体露光技術の候補の1つである。
現在一般的に使用されているフォトリソグラフィは、回路パターンを描いたフォトマスクの上から光を照射し、ウエハー上に塗布した感光材のフォトレジストに転写する。
これに対してNILは、回路パターンが掘られた型（モールド）をウエハー上のフォトレジストに直接押し当てて転写する。
光を使うフォトリソグラフィと比べて、今後の微細化ではより有力な手法になると期待されているという。

　東芝は、次世代半導体露光技術として、NILの他にも、液浸リソグラフィやEUV（極端紫外線）リソグラフィ技術の開発も手掛けているが、SKハイニックスとの共同開発は、NILのみが対象となる。

15nmプロセス以降を目指す

　今回の共同開発では、15nm以降のプロセスの実現を目指す。東芝は、
「現在、東芝がメモリに用いている最新プロセスは15nmなので、それ以降が目標になる。共同開発する技術は、3次元NAND型フラッシュメモリなどにも応用できると考えている」
と述べている。

　開発費などは明らかにしていないが、「東芝とSKハイニックスで折半になるので、開発コストの削減を図れる」としている。

　東芝は2014年3月に、NANDフラッシュ技術を不正に取得/使用したとして、SKハイニックスに対し民事裁判を提起したが、
両社は同年12月、和解に至っている。その際、東芝は、和解を機に新たな協業関係を築くべく、DRAMの供給契約やNIL技術の共同開発について合意したとも発表していた。

何度同じ過ちを繰り返せば気が済むのやら・・・

何のことかさっぱりわからない

スパイに注意してくれよ

ハイソックスがどうしたって？

また南朝鮮とつるむのかよ…
アホなのか
学習能力ゼロなのか

型が削れて古い戦艦プラモみたいにバリとか出ない？

田中は何か弱味でも握られてるのか？

昔から不思議だとおもってるのが、
どうやってレイリー限界を超えた光学プリントをしてるん？

　
　　　　し　　ま
　 　　 て　　る
　　 　 い　　で
　　 　 な　　成
　 　　 い 　 長
　　　　 ：
　　　　 ：
　　　　 ：

東芝終了のお知らせ

団塊・・・

東芝は今後の主力商品である次世代不揮発メモリMRAMも
韓国との共同開発も決まってるし
自前で大量調達出来ないとＤＲＡＭみたくパクられ損だしね
生産能力の低い日本企業としては仕方が無いね

また、わらしべと牛を交換する愚を……

日本の経営者ってアホしかいないのか

NILを共同という事は？　共に回路設計で競うという事？
メモリメーカー同士だからかな？

廃肉なんかと組みやがって

>>9
露光では位相をズラした複数の光を当てたり
液体で満たして屈折率を上げたりする

東芝、何故学習しない
日本企業は本田宗一郎に倣えよ

>>13
なんかいずれぱくられるの分かってるから、先行者利益最大化のためにチョンの設備使おうって感じに思える。

本当に頭悪いのな、東芝。。。

>>11
いや終了は残念ながら日本だよ
日本は韓国のために存在する完全用日体制ができあがりつつある
マスコミ奪われても取戻せない意味を考えてこなかった日本人の負け
日本は韓国の情報植民地
手後れ

あ；あん

すげー楽しみなのは俺だけ？

ハイソックス単独じゃどうにもならん技術だと踏んでるんだろうが
中国へ技術を売りさばかれたらどうなるかわかってんだろうかなあ

金だけ出させるならあり
まあそんなことはないんだろうけど

前回手を組んだのって第一次安倍政権下だったっけ？