【SPIE】ASMLが「FlexWave」の実体を明らかに,ニコンは照明系のパラメータの取り扱いを議論
リソグラフィ技術に関する国際会議「SPIE Advanced Lithography 2011」(2011年2月27日〜3月3日,米国サンノゼ)の光リソグラフィのセッションでは,
最終日に恒例の露光装置メーカーの発表があった。既報で述べた通り,
露光装置の開口数(NA)が1.35と変わらないため,それをいかに安定して使い切るかと,市場での実績が主な発表内容になった。
http://www.nikkeibp.co.jp/article/news/20110307/262781/