日中両政府は7日、経済関係の主要閣僚による「日中ハイレベル経済対話」の第2回会合を東京都内で開き、
知的財産の保護や両国企業がアジアの途上国の開発に協力する際の資金支援などで一致し、11の合意文書を交わした。
世界経済の回復に向け両国が必要な景気刺激策を講じることを確認、世界貿易機関(WTO)の多角的貿易交渉(
ドーハ・ラウンド)の早期妥結を目指すことでも一致し、経済・通商分野で両国の協力を強化する方針を打ち出した。
知的財産保護では、中国で横行する模倣品被害を防止するため両国の関係機関が連携して年内にワーキンググルー
プを設置することで合意。中国国内の公害被害者に対する救済制度の整備に向けて国際協力機構(JICA)が協力することでも一致した。
また、日中企業がアジアの途上国に進出してその国の開発に協力する際に、政府系金融機関の国際協力銀行と
中国輸出入銀行が協力。日中の企業が共同で受注したインフラ整備事業などを対象に、金融面で支援を講じる。
一方、中国政府が目指しているIT(情報技術)セキュリティー製品の情報を企業に強制開示させる「
強制認証制度」の導入については、日本側が改めて撤回を求めたが、中国側は対応を明確にしなかった
。東シナ海のガス田共同開発問題や、地球温暖化に向けた取り組みでも対話の継続は確認したものの、具体的な前進は見られなかった。両国は来年末までに第3回会合を開く予定
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