●スパッタ使い集まれ！●

スパッタで何を作製してますか？

IBSでPFN

PFNって何？

ところでターゲットはどこから買ってる？

コンビニ

東名道伝馬区伊藤をつくってまふ

>>4
プレス器で自分でつくる。
三菱マテリアルのは高い

合金薄膜してる

>>3　PFNは、Pb(Fe1/2Nb1/2)O3のPb系ペロブスカイト化合物です。

２よ、IBSはイオンビームスパッタなのだな。
PFNそんなマイナーなものは聞いたことない。
もっとメジャーなペロブスカイトはいくらでもあるだろ
チタバリとか。。。

モナーとか作ってる

>>10　スマソ。確かに略しすぎるのはあまりよくないですね。

アルミナ

アルミナってアルミの原料となるやつだっけ？

アホは氏んでくれないかなぁ

アルミナはアルミの表面にできる酸化膜です。

アホは氏んでくれないかなぁ

ボーキサイトと勘違いした。。鬱だ。

Ge/Siの多層膜作ってるよ。
IBSやってる人たち
加速グリッドとターゲットの電位の関係教えてくれませんか?
イオンガン＝アース
加速グリッド＝−5kV
タ−ゲット＝-10kVの
うちの器材はおかしいとおもうのですがどうですか?

金属膜やってる人はいないのか？

昔BaTiO3のスパッタやってたよ。Fe-RAM向けの高誘電体膜作るのに。

単なる高周波プラズマに磁界かけてイオン密度上げてましたが。
バイアスで基板もたたき、イオン衝撃のパッキング効果で
低温結晶化を狙ってました。基板温度200度で結晶化した。
でも、イオン衝撃ゆえ内部欠陥が多くて、バルク比の誘電率は悪かったなぁ

今はゾルゲルかcat-CVDのほうが基板に低ダメージでいいみたいだね。

膜厚測定はどうやってる？
うちは水晶振動子で測定してるけど、精度が悪そうで・・・

>>22
Q振動子はあくまで目安じゃないかな？
後はエリプソや膜厚計できっちり詰めると。

http://www.inkando.com/cgi-rankingplus/rankin.cgi?id=0511030508

FTS、マンセー

ヘリコンマンセー

削ってる。
ただ、ひたすら削る

>>22
水晶振動子使うと便利だね
でも掃除中に腕が当たったりするとまた設定し直さないといけない。

めんどくないっすか

確かにめんどい

水晶振動子は精度イマイチ
透明膜なら透過or反射でin-situモニタがええの

RHEEDとか使ってる方いません？

age

3○1○使ってる人っていますか?

DCを買おうか、RFを買おうか
もっといいものは無いのか？
ECRか？マイクロ波電源高いのか？

>>35
対向ターゲットもお忘れなく！

>>31　　精度いまいち
ﾊｹﾞﾄﾞｳ

セラミックスの薄膜作ってます。
できた膜はもろ干渉縞が見えるんですけど、
膜厚を均一にする簡単な方法ってないんですかねぇ……

>>32
お前、俺と同じ・・・・

>>38
基板を高速回転させるってのはダメ？

セラミック上に金属膜をスパッタする時、
スパッタ前にプラズマ処理すると金属膜の付着力って
あがるのですか？

age

>>41

スパッタ法じゃないけど、イオンビームでクリーニングするよ。
しないと、気持ち悪い。
やりすぎても、良くないような気がする。

＞41
場合によっては上がるかもね。有機物が飛んでるんでしょう。

チタンクリーンウェハーに代わるウェハーをクダサイ

（＾＾）　

質問版じゃないのに質問して悪いのですが、
ターゲットにぶつかるArの数とターゲットから出てくるIn2Ｏ3の数は、どのような
関係にあるのか教えてください。
お願いします。

スパッタって堆積速度速いの？
毎分１μｍ位いくの？

>>48　いかないよ。よくてその1/100。

＞４８
俺は2時間やって200nmだなぁ。

ところで、薄膜作るのに、スパッタの利点ってナニ？
他にもCVDとかで薄膜って作れるよね？
物性初心者なもんで･･･

スパッタ〜？何だ、そりゃ？
金にもなりゃしない
こりゃ、傑作、ひゃっひゃっひゃ

>>51
死ね
http://mnfuji2.hp.infoseek.co.jp/

>>50
薬品とかに浸さないからスパッタしたい材料が変質しない。
薬品を使わないCVDプロセスより低温で済むっていうのも変質しない理由かな。
堆積速度は惨敗だけどね

>>50
MBEやCVDに比べるとメンテも含めてお手軽
薄膜作製方でも群を抜くコストの安さ
大面積の膜が作れる
かと・・・

＜血液型A型の一般的な特徴＞（見せかけの優しさ・もっともらしさ（偽善）に騙され
るな！）
●とにかく気が小さい(神経質、臆病、二言目には「世間」、了見が狭い）
●他人に異常に干渉する（しかも好戦的・ファイト満々でキモイ、自己中心）
●自尊心が異常に強く、自分が馬鹿にされると怒るくせに平気で他人を馬鹿にしようとす
る（ただし、相手を表面的・形式的にしか判断できず(早合点・誤解の名人)、実際には
たいてい、内面的・実質的に負けている）
●本音は、ものすごく幼稚で倫理意識が異常に低い（人にばれさえしなければＯＫ）
●「常識、常識」と口うるさいが、実はA型の常識はピントがズレまくっている（日本
の常識は世界の非常識）
●権力、強者（警察、暴走族…ｅｔｃ）に弱く、弱者には威張り散らす（強い者に弱く
、弱い者には強い）
●あら探しだけは名人級（例え10の長所があってもほめることをせず、たった１つの短所を見つけてはけなす）
●基本的に悲観主義でマイナス思考に支配されているため性格がうっとうしい（根暗）
●一人では何もできない（群れでしか行動できないヘタレ）
●少数派の異質、異文化を排斥する(差別主義者、狭量）
●集団によるいじめのパイオニア＆天才(陰湿＆陰険）
●悪口、陰口が大好き（Ａ型が３人寄れば他人の悪口、裏表が激しい）
●他人からどう見られているか、人の目を異常に気にする（「世間体命」、「〜みたい
」とよく言う）
●自分の感情をうまく表現できず、コミュニケーション能力に乏しい（同じことを何度
も言ってキモイ）
●表面上意気投合しているようでも、腹は各自バラバラで融通が利かず、頑固(本当は
個性・アク強い）
●人を信じられず、疑い深い（自分自身裏表が激しいため、他人に対してもそう思う）
●自ら好んでストイックな生活をし、ストレスを溜めておきながら、他人に猛烈に嫉妬
する（不合理な馬鹿）
●執念深く、粘着でしつこい（「一生恨みます」タイプ）
●自分に甘く他人に厳しい（自分のことは棚に上げてまず他人を責める。しかも冷酷）
●男は、女々しいあるいは女の腐ったみたいな考えのやつが多い(例：「俺のほうが男
前やのに、なんでや！（あいつの足を引っ張ってやる！！）」）

>>50
成膜中の安定度が良いところかなぁ? まあ、それが必要な場合って
それほどないんだけど..
IBSD つかってるんだけど 時間制御だけで厚さ10nm の膜の成膜で
膜厚誤差 1% 工夫してやって0.2% まで 追い込めました。

干渉縞ってなんですか？質問ですいません

ターゲット作ってるんだけど割れるよー・・・・。
皆様は何�dぐらいで押されているのでしょうか？
バインダーとか使っているのでしょうか？

（＾＾）

　　 ∧＿∧
　　（　　＾＾ ）＜ ぬるぽ（＾＾）

━―━―━―━―━―━―━―━―━[JR山崎駅（＾＾）]━―━―━―━―━―━―━―━―━―

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ﾋﾟｭ.ｰ　(　　＾＾ ） ＜これからも僕を応援して下さいね（＾＾）。
　　＝〔~∪￣￣〕
　　＝ ◎――◎ 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　山崎渉

FePt合金膜作ってます。

　__∧＿∧_
　|（　　＾＾ ）|　＜寝るぽ（＾＾）
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　＼ |⌒⌒⌒~|　　　　　　　　　山崎渉
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　__∧＿∧_
　|（　　＾＾ ）|　＜寝るぽ（＾＾）
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　＼ |⌒⌒⌒~|　　　　　　　　　山崎渉
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>>50
３０minで数百ナノいきまちた。＞＞某ペロブスカイト

　　　 　∧＿∧　 ∧＿∧
ﾋﾟｭ.ｰ　（　 ・３・） (　　＾＾ ） ＜これからも僕たちを応援して下さいね（＾＾）。
　　＝〔~∪￣￣￣∪￣￣〕
　　＝ ◎――――――◎ 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　山崎渉&ぼるじょあ

　　　 (⌒V⌒)
　　　│ ＾ ＾ │＜これからも僕を応援して下さいね（＾＾）。
　　⊂|　　　　|つ
　　　（＿）（＿）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　山崎パン

プレスパだり〜よ〜

スーパーマロイ薄膜を作りたいんだけど、２μくらい堆積させると膜が基板から
剥がれてしまう。これじゃ厚すぎるのかな？

sithdquu.ddfrff,

スーパーマーケッツ・ゼネラル ((米国のスーパーマーケット会社)).

ttp://ftvjapan.ddo.jp/~funa/sha/s-data/angelarea/img/o20040303215331zm6.jpg

>22
水晶振動子はあくまでも目安。
干渉計かエリプソがベター

>38

どうしてもエロージョンの部分が厚くなるからねぇ。
マグネトロンスパッタなら、なるべく水平磁場を増やすとかか・・
>41
基板が何のセラミックか知らないけど、基板と作製膜の
応力を考えてみたら？あとは、作製膜の格子定数に近い
金属をアンダレイヤにするとか。

>48
最近はNiで1μは越えるみたいだぞ？

>64
同じくFePt膜作ってます。
最近as-depo.で垂直磁化膜できたぞ！
保磁力はアボンだが・・・

そのうちAPLに飛ばすから、ご期待あれｗ

膜圧なんてSEMで計ればええやん。

>>75　いつ投稿するんだい？期待age

>>76　確かにな。

いんさいちゅうで測れないとな。

>>57
ニュートンリングのこと？
それとも段差による干渉縞のこと？

>>58
作製法や材料にもよるだろうケド、圧力印加だけじゃ
きびしいのでは？プラズマシンタリングでもしてみれば？
もっともよっぽどコンディション整えないと、酸素だらけ
のターゲットになるだろうケド・・・・

>>76
SEMは目安でしかない。
ある程度の精度が欲しかったら、エリプソか干渉計。
ナノオーダーでの精度なら、小角XRDかな？
方法その他は自分で調べれ。

密着強度ってどうやって測ってるの？

>>80
いろいろ。教科書としては東大出版会の
『薄膜トライボロジー』あたりがおすすめ。

SiO2スパッタ後の再成長がうまくいきません。
スパッタで基板表面に傷ついてるのかな？

Pt/MgOすぱったエピ可能。Cuも可

Alターゲットを使ってスパッタすると
何故かターゲットが黒色化。
ｼｮﾎﾞｰﾝ(´・ω・`)

>>84
酸化してるよそれ。

マイナス７乗トールまで半日かかりまつ

>>86

ポンプどこの製品のどんなタイプ使ってるの？
真空計に吸着があるじゃなくって？？？？

ガラス基板にアルゴンガスだけで常温スパッタしてSiC膜を作ると、
なんでSiC膜は電気を通すようになるのですか？

卒業できるかな・・・俺には無理だよ先生、ていうかこれホントに作れるのですか・・・

TiO2

アルミと炭素の複合膜作ってる人いない？

硬度120GPaのCN膜作ってよ。

帰るなよ・・・

>>93
忙しいからしょうがないんでない？

また名もなきピークを検出してしまった・・・。
そしてまた地味に更新してしまった。

まず練習

んじゃやっぱり練習

rfスパッタどdcスパッタはどっちがいいの？

冷却水って水道水でホントにいいの？

ダメなの？

センスがいいでしょ？

最近注目の薄膜ってなによ？

切削する友人の図・・・
フェードアウトしてゆく・・・

�@干渉縞
　　基板やそれ相応のものの、平面度を簡易的に測定するもので
　　例えば、ガラスでもセラミックでもいいんだが、オプティカル
　　フラットを乗せると、上から見たら縞が出来る。それが干渉縞。
�A最近の流行
　　ＧａＮかな？ＺｎＯでもいいね。
�B水道水
　　うーーん、チラーはいると思う。水道水なら朝晩で温度が変わる
　　んでねぇ。またフィルターは必要だと思う。
�Cポンプ
　　クライオポンプだな
�DＳｉＣ膜
　　体積固有抵抗は１０の何乗？温度上げれば体積固有抵抗値は下がるが・・
�EＣＮ膜
　　工具に使用するの？
�F酸化する
　　Ａｌはすぐ酸化するんでね（錆びる）一回表面をきっちり洗浄して
　　やらないと酸化するんでしょね。アルマイト処理とかやってる？
�G垂直磁気膜
　　おーーいいねえ　小型ＨＤＤはこれでしょ？
�H密着強度
　　もっとも簡単なのは、カッターで傷を入れてセロテープを張って
　　ぱっとめくる方法　これでもちゃんとしたです。クロスなんとか
　　って方法。

　

ＣＮはＧａＮのバッファーになる？

＞基板が何のセラミックか知らないけど、基板と作製膜の
応力を考えてみたら？あとは、作製膜の格子定数に近い
金属をアンダレイヤにするとか。

基板のヤング率と膜のヤング率、温度、外形で
たわみは計算できると思う
基板の材質は何か？

ＣＮは工具で使いたいのだ！！

GaNはバッファいらないよ

あげ

スパッタの長所と短所が知りたいです
教えてくださいませ

長所：シャッターの取り付けが楽しい。
短所：シャッターの掃除が面倒。

>>111
シャッターの取り付けって面白いんですか？
スパッタ以外の成膜方法はシャッター無いんですか？
シャッターを愛してるんですか？

一発で角度があうと最高である。
そして君の心のシャッターを開こう！！(ﾟ∀ﾟ)!!

世界中のシャッターに愛を！！

>>112

シャッター閉じるなよ。。。。
さびしいやんか。。。。

そしてターボリークしないでよ・・・

スパッタでチタン電極つけられますか?

>>117
報告例はくさるほどあるかと思われ。

スパッタリングで半導体レーザの端面ARコーティングをしたいのですが、
ターゲット材料をご存知の方はいませんか？

DCスパッタとRFスパッタならどっちがいいのかな？
カーボン系の薄膜作るとしたらの場合だけど

＞117
普通に可能だろ？酸化するほうがやっかい

融点が高くてうちではできないようだ。
Eガン使えってさ。

>>119-120
もう少し材料を限定しないと答えられないよ。
>>119
レーザに使う半導体の屈折率から、ARコートの光学条件を
満たす屈折率を持つ材料をまず探す。
後は濡れ性の問題などで絞っていく。
>>120
カーボン系は範囲広すぎ。
少なくとも絶縁膜をつけるのならば、DCはありえん。

>>117
融点が高いからスパッタできないって言われたのか？
意味不明だぞ。

蒸着だってチタンならフィラメントから普通にサブリメーションするしな。
まあ真空度が悪いとそのままゲッタポンプになっちまうがｗ

真空が引けねー！

　　 　 ∧＿∧　 ∧＿∧
ﾋﾟｭ.ｰ　（　 ・３・） (　　＾＾ ） ＜これからも僕たちを応援して下さいね（＾＾）。
　　＝〔~∪￣￣￣∪￣￣〕
　　＝ ◎――――――◎ 　　　　　　　　　　　

スパッタ使いの皆さんに質問です。
膜の結晶性や付着強度は、スパッタされる原子/分子が基板に
衝突する際のスピード(運動エネルギーか)が大きいほどに良くなるみたい
ですけど、そうなるのは何ででしょうか？
あと、同じように基板温度も高いほうが良いとされるのは何でですか？？

　

成長中の膜表面での原子の運動が激しくなると、よりエネルギーの低い、
安定な位置に落ちつくから、というのが一番もっともらしい説明でせう。

ただエネルギーが大きいほど良いわけではない。大きすぎるとこんどは
成長が完了した下地にダメージが入ったりするので。温度も高すぎると
熱歪の問題とかいろいろ出てきますな。

そんなことよりフタ開けたまま荒引きしちゃったじゃねーか

光学用途で酸化物をRFスパッタしてるんですが，厚くしてくと
表面が粗くなってしまいます．そこでイオンビーム銃をいれて
基板をたたきながら着けたらどうかなあと考えているのですが
ダメですか・・・

お釜の構成上，イオンビームスパッタにするのは難しいで津

基板に RF バイアスをかけてみるのがよろしいんじゃないでしょーか。

>>135
サンクスです．でも特殊な形をしている基板につけるので
基板は宙に浮いてるんです．基板近くに電極をもってきて
バイアスをかけても効きますか？

やってみないとわからないと言われそうですが．．．

>>136
それは効果がないかと。「基板に RF バイアス」というのは、
基板に入射するイオンのエネルギーを大きくすることが目的ですから。

イオン源で叩くのも効果はあるでせう。圧力が高いと散乱しちゃって
だめでしょうが。例えばガンと基板の距離が 10 cm だとすると、
目安として 0.5 Paより低いくらいでないと効果は少ないと思います。

膜を付けるプロセスが問題なのではなく、突いたブツがあればいい、
ということなら、プラズマ溶射などの方が良いかもしれません。

>>137
たびたびサンクスです．やっぱりバイアスはダメですか．

今は放電ぎりぎりの０．３Paくらいでスパッタしてます．
とりあえずイオン源つかってみます．酸化物をつけるので
酸素をとばすか，アルゴンで叩くか，とりあえずやってみます．

効果なかったらチャンバをいじって，イオンビームでターゲット
をスパッタできるように変更するつもりです．スパッタレートは
かなり落ちそうですが．．．

溶射はやったことありませんが，粗面ができるイメージがあり
ます．そうでもないんでしょうか？欲しいのは厚さ１０ミクロン程度
で数ｎｍ（ＲＭＳ）の表面粗さです．

>>138
10um で rms 数 nm というのはかなりシビアですね (というか
ちゃんとできたらそれだけでも結構インパクト大きそう)。
柱状成長をしちゃうような領域 (Thornton モデルでいうところの
zone 1) では、射影効果が出ちゃってまず無理でしょうから、
目論見の通りエネルギーを与えるか温度を上げるか、ということに
なるのでしょうけど…

溶射はドロップレットが乗るとザラザラになってしまいますが、
うまいこと荷電粒子だけを曲げて基板にあたるようにすると、
かなり付着原子あたりのエネルギーを大きくできるのだそうです。
某学会の展示会でのメーカーのひとのコメントの受け売りですが。

>>139
どうもです．とても参考になります．

「数nm」は言いすぎかな．とりあえず10nmをきる位が欲しいです．
今は30nm以上です．結局のところは基板が平面でないという
ところがネックです．「Thornton モデル」は良く知らないのですが
実は理論的に言ってもムリなのかもしれません．まあとりあえずは
別の逃げ道も考えながら，できるところまでやってみます．
イオン銃手配しました．年明けには入りそうです．

溶射の方も了解です．ドロップレットを着けるのが溶射かと思っていた
私が無知でした．進歩していたのですね．

スパッタでつけたAlが剥がれるのだが防止策はないか？

基板が汚いんじゃないのか。有機物なんかが付着してると
はがれやすいよ。ちゃんと前洗して製膜してる？

ITOの上につけたいのだがITOの基板をアセトンに浸して超音波洗浄器5分
⇒イソプロピルアルコールに浸して超音波5分⇒表面N2ガスで飛ばして　ホットプレート120℃　2分
すべてＣＲ内で行っているです

そんだけやってるなら、汚れのせいじゃなさそうだね。
一応聞くけど、逆スパッタもやってるよね？
密着力の高いクロムとかで積層できない？
ＥＬとかに使うんなら仕事関数変わるからダメだけど。

逆スパッタの機構がないんです。
うちのヘリコン・・・
Crのバッファ層かぁ
今のところELではなく太陽電池ダイオードなので考えて見ます。
助言Thanks

次は有機膜の上に何をつけようか・・・

成膜時の基板温度ってどのくらいですか？
ちなみにうちのRFでは200℃くらいでやっているんですが、
これってどーよ！？

スパッタ薄膜の抵抗温度係数ってなんで負になることが多いんですか？

FTOにつけたらええやん

Mighty MAK 1.3"というスパッタソースでZnS:Mn飛ばしてるんですが、
同じ装置または、スパッタソース型のRFマグネトロンスパッタ装置で
ZnS:Mn飛ばしてる人いませんか？色々情報交換したいです。

…といってもこのスレあまり人がいなさそうですね(汗)

NiO/FeNiの薄膜ｽﾊﾟｯﾀしてたお

水流すの忘れて一回壊したことある。

おぉ！材料は違うけど装置は同じなんですね？！

参考程度に、スパッタ電力・距離・基板温度はどんなもんだったか
覚えてらっしゃいますか？自分は、電力は50W前後、距離は10cm前後、
基板温度は(ZnS:Mnなので)200〜300℃で試行錯誤してるのですが、
どうも良い膜が作れなくて。

冷却水はそんなに大事なんですねw　気をつけます。

>141

膜厚が厚すぎるんじゃねーの！

age

スパッタ初心者が目を通したらいい論文とか書籍があれば教えてほしいです。
俺卒業できないかも・・・

論文ならJDreamにアクセスしたらいいんじゃない？
書籍は『薄膜技術の新潮流』とかそこいらが簡単でお勧め。

IBSの修理を続けて半年経つ。
ガイシとか研磨しても何の効果もなく
フィラメント電圧が6Vを切ったあたりで電極の過電流が治まらなくなる。
修理の業者はこねーし。卒論むりage

○。・。○。・。○。・。○。・。○。・。○。・。○。・。○。・。○
このレスをみたあなたは・・・３日から７日に
ラッキーなことが起きるでしょう。片思いの人と両思いになったり
成績や順位が上ったりetc...でもこのレスをコピペして別々のスレに
５個貼り付けてください。貼り付けなかったら今あなたが１番起きて
ほしくないことが起きてしまうでしょう。
コピペするかしないかはあなた次第...
○。・。○。・。○。・。○。・。○。・。○。・。○。・。○。・。○

アクリルに金スパッタできるか？

>>158
すぐはがれそうだな

hddffdfhdfh





cxxcxcbxbbc




tr
jrjtrtrjtrj






hsdhshsshd




vcnnvccvncvn




sdgdsggsddgs

ダイヤモンドライクカーボン通称DLCの研究をしております。
スパッタで生成しようと思うのですが、報告例が少ないです。

低温でCターゲット、Arガス、RF電源使用。他にどのような条件が必要であるのでしょうか。
また、中間層を入れないと評価できないのでしょうか。成膜後、基板からすぐに剥がれるため評価不可能なのですが・・・

>>161
＞低温でCターゲット、Arガス、RF電源使用。他にどのような条件が必要であるのでしょうか。
水素は入れられる？反応性スパッタやCVDでの成膜ではよく使う手なのだが
Ａｒのみだと低温で劇的に膜質を変えるのは困難。

＞成膜後、基板からすぐに剥がれるため評価不可能なのですが・・・
どんな基板を使ってる？洗浄方法は？スパッタ装置の構造は？
中間層うんぬんの前にまずこれらを明らかにしなければ何ともし難い。
あと、一般的に低温成膜だと応力が強くなるので
密着強度低い基板・膜だと剥がれやすい。

>>162
ご回答ありがとうございます。
Ａｒ＋H2混合ガスがやはりおもしろいのでしょうか。
基板加熱するとやはり密着力が増し、評価可能になりました。
しかし、硬度が低いです。
D−peak、G-peakの強度によって、硬度はやはり違うのでしょうか。
単純にD-peakが強いDLCじゃダメなのかな。

スパッタでH２を導入した場合の懸念点を教えてください。
基板加熱なんかしたら、爆発します？

おまいらどこのスパッタつかってるの？

大阪真空

>>164
なんでやねん・・・
Arとか希ガスで割って使う場合は問題ない
大体 5〜15％くらいにして使うよ

CターゲットとMgターゲットでArスパッタした場合の危険性ってありますか？

　　　　　　／￣￣￣￣￣￣＼
　　　　／　　　　　　　　　　　　　＼
　　　/　　　　　　　　　　　 　 　 　 ヽ
　 　 l:::::::::.　　　　　 　 　 　 　 　 　 |　
　 　 |:::::::::: 　　（●） 　 　 （●）　　 |　
　　　|::::::::::::::::: 　 ＼＿＿_／　　 　 |　　
　 　 ヽ:::::::::::::::::::.　　＼／　　　　　ノ

＞＞164

H2とか爆発しそうじゃないですか？
大気にしたときに・・・

>>170
アホか。おまいはH2でチャンバーをリークするのか？

ターゲットを貼り付けるのに、Inでくっつけるけど、
スパッタ中に熱くなってすぐにはがれて、ターゲットが落ちる。
どうすればよいだろう……

>>172
つ業者に頼む

http://live23.2ch.net/test/read.cgi/liventv/1254248291/1-100

Arガス+AlNターゲットでスパってるんだが、絶縁膜ができない。
膜中にAlが混ざってる気がする。
何か原因対策はないだろうか？

新発明や特許やアイディアなど知的財産を持ってる方々を募集~

弊社は新発明や特許やアイディアなど知的財産の譲渡、販売、取引などを努めさせておる会社でございます。
知的財産を持ってる方々のために、良い取引先を探すことは仕事内容でございます。
新発明や特許やアイディアなどを利益にしたい方々のご連絡を、心から持っております。
連絡先は以下通りでございます：[email protected]

RFマグネトロン反応性スパッタリングを用いて、Nbの酸化物薄膜を作っています。
基盤加熱600度で作っているのですが、大体何度位まで冷えるのをまてば、薄膜
は酸化せずにすむのでしょうか？教えてください。ちなみに温度を測っている場所
は、基盤ではなくチャンバーの中です。

＞＞１７５
使っているスパッタ法にもよるが、窒素がきちんとはいってないんだろ。

＞＞１７７
Ｎｂ酸化物薄膜を作っているのに、酸化せずにすむ？？
意味がわからん。
基板でなくて、チャンバー？　真空中だと熱伝導悪いんだけど、
こっちも意味わからん。

>>175
うちの近所ではN2ガスも混ぜてる

> 膜中にAlが混ざってる気がする。

分析してます？

ターゲットとマグネトロン磁石の間にある銅板って何のためにあるの??

>>180
いらないから外してもいいぞ

>>180
いらないから外してもいいぞ

>>178
>>179
やっぱN2いるのね。
分析したらNが足りてなさそう。

水のシールと、放熱を兼ねてる。
バッキングプレートのことだろ。

>>180

装置ばらして確認しる！
バッキングプレートの下に、磁石が入ってる。
すっげー汚いぞｗ

RFスパッタでAlを付けているのですが、1時間で5Å程しかつきません。
ガスはAr、ガス圧は0.05Torrです。何が原因でしょうか？

ターゲットのサイズとかマグネトロンかどうかとか入れてる電力とか
S/W 比はちゃんと 1 かとか…がわからんとなんとも言えない。
他の物質なら、その装置でちゃんと成膜できてるの？

装置はちゃんとしたやつ？まさかブロッキングコンデンサが無い、
なんてことはないよね？