薄膜プロセス

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242名も無きマテリアルさん:05/02/17 01:19:52
富士通とかFESTA(今はもうないが・・・)はAFMで20nmくらいの
選択的に酸化させる技術あるよね。でエッチングして再成長で
量子ドットの位置制御やってたけど。
243名も無きマテリアルさん:05/02/21 03:52:34
基板上に成膜した薄膜をエッチングして3次元構造を作るっていうような
ことを卒論でやっていました。
中間発表会のときに別の研究室の理論屋さんの助手から
最初っからそういう形に成膜すればいいじゃん
と言われた。本人は笑いをとったつもりらしい。
244名も無きマテリアルさん:05/02/21 23:38:32
111面のピラミッドを成長してその上にドットを作るとか良くあるよな。
245名も無きマテリアルさん:05/02/23 00:32:44
薄膜への下地層付加による保磁力増大の原理を
知ってる方いたら教えてください
246名も無きマテリアルさん:05/02/24 14:50:26
保磁力増大?
247名も無きマテリアルさん:05/03/11 14:10:58
バッファーつけた目的は?
248名も無きマテリアルさん:05/03/13 17:17:56
卒研でMPCVDで薄膜を作成する実験をやることになったんですが

原料にフッ素が含まれているため対向電極の銅が
腐食される問題を何とかできないかと考えています。
何かいい知恵があったらお貸し願えませんか?
249名も無きマテリアルさん:2005/04/27(水) 00:05:35
電極の材質かえろ
250名も無きマテリアルさん:2005/04/27(水) 23:03:58
>>243
有機分子では自己整合とかもあるし。一概に理論屋の助手の
いうことがおかしいとはいえない。ま、この場合はおかしいけどな。
一応研究と名のつくことをやるんなら、エッチングで作るような
至極当たり前のことでなく、なんか新しい手法で構造を作るような
ことを考えられるようになりたいものだ。
251名も無きマテリアルさん:2005/08/31(水) 17:28:42
スプレー法
252KAP:2005/09/05(月) 21:37:22
KAPを用いた配向性薄膜の作成法を知っている人がいましたら教えてください。悩んでいます。
253名も無きマテリアルさん:2005/09/07(水) 19:25:02
スプレー
254名も無きマテリアルさん:2005/09/08(木) 18:30:57
なんでゾルゲルはなんや?
255ゆう:2005/09/09(金) 08:31:05
フタル酸水素カリウム結晶ををガラス基盤に配向させた後、その上に有機物を配向させたいのですが、フタル酸水素カリウム(論文ではKAPと略されていました)を配向させる方法が分かりません。誰か、助言をお願いします。
256& ◆xWh2ZLVRdc :2005/09/16(金) 12:00:04
>239
採算度外視でやるならエキシマレーザーで可能
257名も無きマテリアルさん:2005/09/17(土) 21:53:18
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258名も無きマテリアルさん:2005/09/18(日) 11:57:25
卒研で銅フタロシアニン薄膜の単分子膜
を作っているんですが、膜厚計がなくてどのく
らい蒸着していいのか分かりません。真空度、
昇華温度等にもよると思いますが、
助言よろしくお願いします。
259名も無きマテリアルさん:2005/09/18(日) 23:06:55
膜厚計も何もないのに薄膜を蒸着で作製しようと言う企画がダメ。
そもそもどうやって膜を評価するつもりなの?
260名も無きマテリアルさん:2005/09/20(火) 00:39:37
酸化物超伝導体YBCOの薄膜だって蒸着で作ってるんだから出来るだろ!
 組成の制御が難しいんだよねこれが・・・ 
261名も無きマテリアルさん:2005/09/27(火) 15:17:35
産業応用性とか実用性のある金属薄膜って言ったら何がありますかねえ?
262名も無きマテリアルさん:2005/09/28(水) 05:56:05
薄膜ってどれ位までの厚さのことをいうんですか?
263名も無きマテリアルさん:2005/09/28(水) 13:56:22
薄膜ポリマーって破裏拳ポリマーみたいだよな
264名も無きマテリアルさん:2005/09/30(金) 01:49:02
>>262
特に定義はないと思うけど、感覚的には1μm未満、
都合により、10μm弱あたりまで使ってたりするけど。
265名も無きまてりある:2005/10/03(月) 11:19:18
はじめまして。
CuPcとF16CuPcの配向の比較をしてみようと試みておりますが、フッ素が付加されたことで違いが出るでしょうか?
アモルファスではちょっと…。
266名も無きマテリアルさん:2005/10/16(日) 01:42:34
窒化物の製膜には、超高真空でなければいけないらしいのですが、その理由がよくわかりません。
このことについてご存知の方いらっしゃいましたら教えていただけますでしょうか。
単に酸素や水素分子が存在すると、そちらと反応してしまうから、という理解でよろしいのでしょうか?
267名も無きマテリアルさん:2005/10/16(日) 01:58:46
>>266
おいおい、CVDはどうすんだよ・・・。
268名も無きマテリアルさん:2005/10/17(月) 01:01:54
スパッタ成膜で、
膜が柱状構造(多結晶)になる場合、
アモルファスにするには、一般的には、
圧力やパワーをどう振ればいいんでしょうか?
あと、単結晶にする振り方も教えてください。
269名も無きマテリアルさん:2005/10/25(火) 10:37:31
>>262,264
分野によると思う.
うちでは100nmこえると厚膜って感じがする.
量子効果デバイスとかの超薄膜を扱う人たちは数十nmでも厚いイメージ.
いちいち超つけたりしないから,薄膜というと数nmを指す.
「一般的」ってのは無いんじゃないかなぁ.
270名も無きマテリアルさん:2005/12/21(水) 02:04:44
結晶がエピタキシャル成長すると
(薄膜をデバイスと使用する際に)何か良いことがあるんでしょうか。
ご教授お願いします。
271名も無きマテリアルさん:2005/12/21(水) 13:00:25
たとえば絶縁膜の場合、中途半端な結晶化はグレイン構造による絶縁性低下を
起こすことから回避され、アモルファス膜を使うのが常識です。これに対し、
完全な単結晶エピ膜は、絶縁性、界面特性の観点からアモルファスや多結晶より
も有利なのは明らかですよね。

ちなみに「結晶がエピタキシャル成長する」という表現はおかしい。原子また
は分子がエピタキシャル成長して結晶になるんだから。結晶にならない場合の
方が多いけど。その場合はエピタキシャル成長とは言わないですね。
272名も無きマテリアルさん:2005/12/21(水) 23:52:03
薄膜での結晶成長でエピタキシャルというと、結晶基板の方位と
整合して膜の結晶方位も特定の向きになることを言う…のだと
思っていました。

ので、エピタキシャルではない結晶薄膜もありうるので、自分は
「結晶がエピタキシャル成長する」と言っても、間違いだとは
言い切れないなあ。まあ確かに違和感はあるけども。多結晶膜や
配向膜を「結晶膜」に含めるかどうかの違いですかね。
273名も無きマテリアルさん:2005/12/24(土) 04:13:38
もう一回くらい大学にもどって薄膜作りたいなぁ・・・・
俺があの研究室ではじめて単結晶膜の作成に成功したときは教授も喜んでくれた
会社はつまんね

あいつらちゃんと研究進めてるかな・・・テーマ打ち切ってたら笑えるわ・・・
274名も無きマテリアルさん:2005/12/25(日) 22:22:18
ガス流さないでスパッタしようしたのは漏れくらいだろう
今となればいい(?)思い出

スレ違いすまそ
275名も無きマテリアルさん:2005/12/25(日) 23:36:46
レーザーーー
276名も無きマテリアルさん:2006/01/02(月) 07:55:32
>>265
恐ろしく遅レスだが出ると思うよ.
実際にVOPcとF16VOPcでは配向に違いがでる.
むしろ ,既存論文の検索をしたほうがいいと思われ.すでにやられている可能性大.
277名も無きマテリアルさん:2006/01/30(月) 17:24:08
Aerosol Jet Etching and Cleaning
ってどういうものなんですか?
278名も無きマテリアルさん:2006/02/15(水) 04:25:12
プラズマCVDでの膜質に関わる相関関係を示したいい資料どこかにありませんか?
SiH4酸化膜、TEOS酸化膜の成膜で、例えば膜厚均一性が悪いのは何が効いてるとか、
ストレス(反り)が小さいのはLFが弱いからとかの関係資料。
処理室の構造なんかでも変わるでしょうが、大まかなもので結構です。
279名も無きマテリアルさん:2006/02/20(月) 17:03:01
HOPGへきかいする時にセロハンテープ
でやると凄く粗くなるんですが、セロ
ハンテープじゃだめなんですか?
280名も無きマテリアルさん:2006/02/21(火) 21:37:27
どなたか知ってる人いたら教えてください…

今酸化皮膜作ってるんですが、試料の表面仕上げの違いで
表面に皮膜が付くものと付かないものがあるんです。

一つが鏡面仕上げで、もう一つが400番まで湿式研磨した炭素鋼です。
溶液はアルカリ溶液です。

やっぱ表面電位の違いとかそんな感じですかね?
281名も無きマテリアルさん:2006/04/23(日) 22:41:52
あげ
282名も無きスパッタさん:2006/05/02(火) 11:28:25
AL系スパッタ装置でグレインのコントロールがうまくいきません。
基本的なレシピの振りは色々試したのですが何かよい策は無いでしょうか。
Al-Cu、Al-Si等です。
283sage:2006/12/17(日) 23:19:41
age
284名も無きマテリアルさん:2007/05/03(木) 22:06:57
進工業って薄膜電子部品のトップメーカーなんですか?
285名も無きマテリアルさん:2007/05/29(火) 19:35:28
>>ガス流さないでスパッタ
どうなったの?壁面溶けた?
286名も無きマテリアルさん:2008/02/14(木) 17:32:55
high sp3 fraction film
これどうやって訳せばいい?
287名も無きマテリアルさん:2008/02/14(木) 21:24:38
C 系の膜で sp3 結合の割合が多い膜ちうことなんでねか?
288名も無きマテリアルさん:2008/02/16(土) 01:45:32
教えて厨でスミマセン。
真空蒸着で、使用する基板はPMMA 
これにSiO2を蒸着してみたいのですが
やってみた方いますか?
289名も無きマチリアルさん:2008/05/22(木) 05:46:12

392 :Appellation Nanashi Controlee:2008/05/20(火) 02:34:04 ID:e58SyeEK

「ここはワイン板だから」と、ワイン板であることを根拠に寝言を言ってるワイン板
新参者のチミ! オマエさんがいるのは、サイゼリヤスレなんだぜ?
ワインの話なんか無くたって、食い物やビールの話題が延々と続いてもOKなのは、
言ってみればこのスレの伝統そのもの。文句があるのなら、 >1を百遍読み直すべき。
ま、言ってみれば、板ルールなどクソ喰らえの治外法権スレだな。香港にあった九龍城
みたいなもん。
これまでも正論を模した荒らしに耐えてきたし、今後も好きなようにやらせて
もらうよ。ここは俺たちの「サイゼリヤスレ」なんだよ。これは永遠に変わらないし、
ワイン板でやらせてもらうことも変わらない。文句があるならこのスレを汚さないで、
自治スレにでも書き込んでくれ。あまり俺たちを本気にさせないでほしいな。

http://food8.2ch.net/test/read.cgi/wine/1209713858/l50x
290名も無きマテリアルさん:2010/05/26(水) 12:36:10
保守
291名も無きマテリアルさん
PLDの条件出しやりたくないです助けて下さい