【6665】エルピーダメモリ【1200回復祈願】

>>459
> 例の「30nmはドライＡＦステッパー使用のＤＰ」ってのは、出所不明だし与太話だと思う。

出所は↓この記事かな。（閲覧にはユーザ登録必要）　日経エレの署名記事だけど与太レベルでしたか。
ttp://techon.nikkeibp.co.jp/article/NEWS/20100929/185985/

エルピーダ，30nm台前半の2GビットDRAMを12月から量産
2010/09/29 17:54
大下 淳一＝日経エレクトロニクス
エルピーダメモリは，30nm台前半のプロセス技術を用いた2GビットのDDR3型SDRAMを開発した
　　【中略】
量産はまずは広島工場で始める。リソグラフィには，同社として初めてダブル・パターニング技術を導入する。
ダブル・パターニング向けには液浸露光は使わず，ドライArF露光で対応するとみられる。
量産は，2011年中をメドに子会社の台湾Rexchip Electronics Corp.へも移管する予定。