IBMの"Computational Scaling"マスクによる22nmプロセスロードマップのプレスリリースす。
http://www-03.ibm.com/press/us/en/pressrelease/25147.wss 解説わ、この辺の記事が良いす。
http://www.eetimes.com/news/semi/showArticle.jhtml?articleID=210602297 http://www.semiconductor.net/article/CA6597205.html 要するに22nm以降のリソグラフィでEUV実用化の目処が立たないという認識の上で、数値解析で
解像度補正を行うということす。
ちと面白いのわ、Blue GeneやCELL/B.E.を使ったスーパーコンピューティングの応用であることも
強調していて、この技術で競合相手に差がつけられるならプロセスと製品の両面で大きな優位を
示すことができるという点だと思われるす。
(semiconductor.net記事より)
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Computational scaling (CS) uses complex algorithms to modify mask shapes and to control
the illumination source. IBM, working with Mentor, also expects to develop design hardware
based on its Cell processor to keep the time required to simulate mask optimization to
overnight runs. And the CS initiative links to IBM’s Cloud Computing strategy, which offers
scalable, web-based computing services.
IBM said the CS solution is an ecosystem that includes SMO, virtual silicon processing with
TCAD tools and predictive process modeling based on IBM’s Blue Gene supercomputer,
design-rule generation and corresponding models, design tooling, design enablement, complex
illumination, variance control, and mask fabrication.
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