みなさん自分で回路作ったりしてるのですか??

>>294
炉体の温度を上げる時にわずかな残留酸素によってd先に酸化膜が
できて、その酸化膜の上に窒化膜が形成されるから問題。酸化膜は
窒化膜より低温でできてしまうからこうなるのよ。フッ素ガスで
酸化膜を除去してから窒化膜を堆積すれば良い様だけど。再度、
酸化膜ができて窒化膜ができることもあるのでどうしたものかと
思い悩んでしまう。

酸素が炉体内に特に石英管は酸素を吸着しやすいので必ず残留酸素が
あると思った方が良い。吸着した酸素を一度、パージすれば良いのだが
なかなか難しい所である。

酸化膜より低温でできる窒化膜の作る方法を見つければ簡単なんだが、
誰か知ってる？

>>292、>>293 に聞いてみれば？　教えてくれにと思うけど

真空にする必要のあるプラズマCVDじゃだめなの？
プラズマによるウエハへのダメージがあるから使えない？