子会社化された半導体メーカの井戸端
103 ：むにゅ：
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104 ： ：04/09/18 11:13:05 ID:QixOZ2Ew
90n以降は、スループットは悪いが、マスクレスの電子ビーム露光ですなぁ
105 ：直描：04/09/18 11:59:38 ID:TJEBvcF/
↑うちでは0.18umの頃からやっているけど、なかなかメインに
ならないね。
ならないね。
106 ：F：04/09/18 12:34:42 ID:LLtsO4HY
電子ビーム露光装置がレーザビーム露光装置に比べると非常に高い、
処理雰囲気を真空にする必要あり、スループットもイマイチ、
これら条件より普及に難があるのでは
処理雰囲気を真空にする必要あり、スループットもイマイチ、
これら条件より普及に難があるのでは
107 ：100倍悪し：04/09/18 16:25:39 ID:5UuTG4bN
108 ：90ｎプロセス：04/09/19 12:16:21 ID:PGAZPZAf
大量生産ならアルゴンレーザ、少量多品種なら電子ビームてぇ〜ことかな
109 ：部外者：04/09/19 14:02:41 ID:sk85fTY1
フォト工程を全て電子ビームですると言うのも能がないような気がするが
レーザと電子ビーム両方組み合わせて最適化するのもいいのじゃないかと
思うのであった。
レーザと電子ビーム両方組み合わせて最適化するのもいいのじゃないかと
思うのであった。
110 ：_：04/09/19 14:44:35 ID:5F3nyZoq
もしかしてＥＢ描画装置の維持管理は現在の光描画装置と
あまりかわらないと思ってるんじゃないの？
あまりかわらないと思ってるんじゃないの？