【技術】半導体メモリー、記録密度10倍に 発熱抑制で省エネも 北大チームが薄膜加工法開発[12/11/18]

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1やるっきゃ騎士φ ★
コンピューターの情報処理に欠かせない「半導体メモリー」の容量を増やす
新たな技術を、北海道大の海住英生(かいじゅうひでお)助教(35)らの
研究チームが開発した。記憶容量を現在の限界値より格段に増やせる可能性が
あるという。

半導体メモリーは、ノートの文字が小さいほど多くの情報が書き込めるように、
基板に回路を書き込む「メモリー線」が細いほど記憶容量が大きくなる。
現在は光を使って書き込まれ、パソコンなどでの線幅は35〜45ナノメートル
(ナノは10億分の1)。
しかし「国際半導体技術ロードマップ」によると、今の技術で線幅を縮めても
10ナノメートル前後で頭打ちとなり、記憶容量は2022年ごろに限界を
迎えるため、代替技術が研究されている。

チームは、基板の材料としても使われるニッケルや金などの金属を、
厚さ5〜20ナノメートルの薄膜に加工。
その膜の厚みをメモリー線として使い、書き込みに必要な電流の制御に成功。
理論上、書き込む密度を現状の約10倍に増やせるという。

この技術では発熱の原因となる電気抵抗も1000分の1以下に抑えられた。
海住助教は「より多くの情報を処理でき、省エネにもなる。実用化を目指したい」
と話す。

ソースは
http://mainichi.jp/select/news/20121118mog00m300021000c.html
2名刺は切らしておりまして:2012/11/19(月) 09:08:32.36 ID:nN+D4Y4g
またサムスンに無償でプレゼントですか
3名刺は切らしておりまして:2012/11/19(月) 09:11:13.85 ID:qGpOF41N
金太郎飴が発想の元なんだろ
4名刺は切らしておりまして:2012/11/19(月) 09:11:57.17 ID:fYnw907c
ipsと同じでこんなのに資金入れればいいと思うが、出てくる数字が一億とか10億
二桁違うだろ
どれも外国に後からお先に状態
5名刺は切らしておりまして:2012/11/19(月) 09:14:23.80 ID:YiOk3Jok
これ実用化のメドかなりある話なのかな
6名刺は切らしておりまして:2012/11/19(月) 09:16:25.84 ID:eDJTQ8hN
日本は開発だけして掻っ攫われジリ貧に・・・
何度繰り返してもまた繰り返す

選挙も同じで民主がダメなら次は維新
治らんかね〜この国民性
7名刺は切らしておりまして:2012/11/19(月) 09:26:33.75 ID:qCKqvclF
いろんな名字がいるもんだと思った
8名刺は切らしておりまして:2012/11/19(月) 09:26:59.13 ID:CWURYlt6
北大のサイトにもプレスリリースが無いんだけど。
何月何日にどこそこの学会 (論文誌)に発表,って言う記述もないし。
9名刺は切らしておりまして:2012/11/19(月) 09:30:11.60 ID:fYnw907c
>>8
いいんじゃないの
詐欺なら資金集めのときにわかるだろ
10名刺は切らしておりまして:2012/11/19(月) 09:36:40.70 ID:3a21//0I
この人、慶応出身か やるな慶応
11名刺は切らしておりまして:2012/11/19(月) 09:38:41.61 ID:fnRo2bJ6
こういう技術は国内メーカーが有利になるような規定作成しろ
12名刺は切らしておりまして:2012/11/19(月) 09:41:47.70 ID:axRrGFzE
小泉孝太郎似のイケメンだったわ♥
13名刺は切らしておりまして:2012/11/19(月) 10:01:31.32 ID:8cvol6FS
>>10
やらないと僻地から戻れないので必死だったんだろうな。
14名刺は切らしておりまして:2012/11/19(月) 10:39:17.98 ID:I0b49k6y
>>8
北大だから素晴らしい発表かとおもったら、これって違うのね。
無知な奴なら普通に素晴らしいと信じちゃうネタ
15名刺は切らしておりまして:2012/11/19(月) 10:59:48.33 ID:NgulDHRJ
実用化は、まだ先の話なんだね。
16名刺は切らしておりまして:2012/11/19(月) 11:07:19.39 ID:6a5lEKqn
17名刺は切らしておりまして:2012/11/19(月) 11:08:18.46 ID:FctATSZe
韓国人留学生が増えるね
18名刺は切らしておりまして:2012/11/19(月) 11:09:49.11 ID:IoSWUxA8
研究室レベルだと、いいものは結構出てきてるんだけど
やはり実用化が一番大変。
19名刺は切らしておりまして:2012/11/19(月) 11:14:47.77 ID:PQCXwYUN
>>13
寧ろこの手の話題に慶応が出てきた記憶が無いんだが
20名刺は切らしておりまして:2012/11/19(月) 11:18:26.42 ID:qRmXtA4j
>厚さ5〜20ナノメートルの薄膜に加工。 その膜の厚みをメモリー線として使い
半導体のメタル配線ってエッチングで作る物なんじゃあ・・・
21名刺は切らしておりまして:2012/11/19(月) 11:36:40.84 ID:zRQrE/dQ
どうせまた東北大だろと思ったら
北大か
22名刺は切らしておりまして:2012/11/19(月) 11:43:50.35 ID:3a21//0I
>>19
だよな びっくりしたわ つか、見なおした
私立理系なんて金の無駄だとばっかり思ってたわ
23名刺は切らしておりまして:2012/11/19(月) 11:51:13.94 ID:d3CVE0yF
製品化の目処が立ってからニュースにして下さい。
24名刺は切らしておりまして:2012/11/19(月) 13:35:28.72 ID:L4tAcQdi
メモしたニダ。後でスパイを送り込むニダ。
25名刺は切らしておりまして:2012/11/19(月) 16:24:16.13 ID:YoX/yriD
LED
IGZO
今回のメモリー

そのほかにもいろいろあるんだろうけど国から大学へ補助金が出てるだろうに製品化しやすい技術を開発しても
その特許を無償公開だとか日本企業も外国企業も同じ価格で公開だとかするのどうにかできないのかね?
一切どんな名目でも国からお金はもらってませんという大学ならしょうがないけど
国から金もらってるんだから日本企業有利な公開方法でいいと思うんだ
26名刺は切らしておりまして
>>1
>海住英生(かいじゅうひでお)

あだなは絶対モンスター