【インタビュー】キヤノン、半導体露光装置事業の構造改革は来年1月から−大澤正宏常務[09/08/24]
キヤノンの大澤正宏常務は24日、ロイターとのインタビューで、不振に陥っている半導体露光装置事業の
建て直しについて、構造改革の目標を年末までに設定し、2010年1月からの組織再編で実行に移していく
考えを示した。特に、顧客である半導体会社の業界再編を見極めながら計画を立てていくという。
半導体・液晶露光装置を扱う光学機器事業は、08年12月期に続き09年12月期も営業赤字を計上する
見込み。同事業は、製造・販売の一体化など構造改革を実施する計画で、7月から光学機器事業本部長に
就任した日本テキサス・インスツルメンツ元社長の生駒俊明副社長の主導で事業の見直しを進めている。
大澤常務は、同事業の不振は半導体市況の低迷を要因する一時的な側面もあるが、「我々としては構造的な
問題を変えていく」と指摘して抜本的な再建が必要と強調。その上で、メインの半導体露光装置の事業について
「(半導体会社の)顧客が業界再編の渦にいるのでその流れをウォッチしながら事業の構造を変えていく」と述べた。
構造改革は同事業の要員700人を削減するほか、製造・販売の一体化として、子会社のキヤノン
マーケティングジャパンの半導体露光装置事業を吸収する。大澤常務は「これは始まりで、事業構造を含めた
見直しをかけている段階だ」とし、年末までに構造改革の目標や方向性を定めて10年12月期からの新体制で
実行段階に入るとの見通しを示した。
半導体露光装置の世界シェアは、オランダのASMLが世界最大で、ニコンに次いでキヤノンが3位。
一方で、半導体業界の再編では、ルネサステクノロジ(東京都千代田区)とNECエレクトロニクスが来年4月の
経営統合に向けて8月末の契約締結で調整に入っている。また、DRAM大手のエルピーダメモリ(6665.T: 株価, ニュース, レポート)は8月末に公的資金が注入される予定で、台湾当局が設立した台湾メモリー(TMC)の
出資を受けるなど活発化している。
▽ソース:ロイター (2009/08/24)
http://jp.reuters.com/article/topNews/idJPJAPAN-11152520090824 記事は
>>2以降に続きます。
>>1の続きです。
<SEDの開発は継続>
キヤノンは、液晶やプラズマに続く次世代パネルの開発を進めている。大澤常務は「ディスプレーで(動画の)
出力機に展開していく長年の夢がある。それを追求していく気持ちは変わらない」と語り、次世代パネルとして
本命視されている有機ELだけでなく、SED(表面電界ディスプレー)についても開発を継続していく構えを
強調した。大澤常務は、SEDは液晶やプラズマなど既存パネルに比べて高精細で技術的に優位性があると
強調したが「生産技術を研ぎ澄まさなければならない」とし、価格競争に耐えられるだけの量産化の技術を
確立する必要があるとの認識を示した。
キヤノンは、事務機やカメラに続く新しい中核事業として医療機器事業の育成を進めている。デジタルラジオ
グラフィー(X線撮影装置)と眼底カメラで構成する同社の医療機器事業の現行の売上高は200―300億円。
オリンパスの2009年3月期の売上高は3838億円、富士フイルムホールディングスは2698億円で大きく
出遅れている。大澤常務は「事業を大きくしないと評価されない。精力的に取り組みを開始している」と指摘した
上で、事業規模について「すぐに大きくはできないが、段階を踏んで500億円、1000億円と考えていきたい」
との意向を示した。同分野のM&A(合併・買収)についても「いろいろな可能性は考えられる」として視野に
入れていく構えを示した。
キヤノンの09年12月期の業績予想は2期連続の減益計画。08年12月期は9期ぶりの減収減益だった。
大澤常務は「09年12月期を底にして10年12月期以降はプラスにすることはぜひやりたい」と述べた。ただ、
8期連続で増収増益を記録した2007年12月期のレベルに達する時期については「よほど状況を見極め
なければならない」として予測を控えた。
−以上です−
3 :
名刺は切らしておりまして:2009/08/25(火) 01:38:38 ID:T1qUPcCi
撤退すべきだ
4 :
名刺は切らしておりまして:2009/08/25(火) 03:16:35 ID:RQvGHu8x
>日本テキサス・インスツルメンツ元社長の生駒俊明副社長の主導で事業の見直しを進めている
終わったな
5 :
名刺は切らしておりまして:2009/08/25(火) 05:41:28 ID:9eijg0rt
プロカメラマンは続々とキヤノンを捨てている。
仕事中に故障が続発するので。
キヤノンは生産効率追求が行き過ぎて、
手を抜くことしか考えていないDQN企業に成り下がったのだろうか。
6 :
名刺は切らしておりまして:2009/08/25(火) 15:24:18 ID:KV7Xaft4
日本がトップシェアだったものが陥落するってのは最近じゃよくきくようになったな
逆は何があるだろう
7 :
名刺は切らしておりまして:2009/08/25(火) 15:43:30 ID:3KPmFazf
キャノン株は海外投資家が過半数をにぎってんだろ?
もう日本の会社って気がしないな
8 :
名刺は切らしておりまして:2009/08/25(火) 16:01:22 ID:znNJADrD
9 :
名刺は切らしておりまして:2009/08/26(水) 07:55:51 ID:Lb4AVody
ニコン、次世代露光装置の量産機投入を2年延期
ニコンは次世代半導体製造に利用する極端紫外線(EUV)光源の露光装置の開発を見直す。
通常、量産機種の前に出荷する評価用試作機(ベータ機)の開発を中止。最初から量産機種を
投入する。量産機の投入も当初計画の2012年から2年程度延期する方針。光源の出力や安
定性、フォトマスクなどの周辺技術の開発が完全には整わないと判断した。当面、フッ化アルゴ
ンエキシマレーザー(ArF)液浸露光装置の新型機種「S620」の改良に経営資源を集中する。
ニコンは10年に生産が本格化する回路線幅32ナノメートル(ナノは10億分の1)の半導体製造
用には従来機に比べスループット(1時間当たりのウエハー処理枚数)を最大2倍にした2回露光
(ダブルパターニング)対応のS620を投入。線幅22ナノメートル以降でEUV露光装置を見据え
ている。
2009年08月21日 日刊工業新聞
http://www.nikkan.co.jp/news/nkx0320090821aaab.html
10 :
名刺は切らしておりまして:2009/08/26(水) 08:22:11 ID:jV4ljneb
>>5 じゃぁメイドインチャイナを使えとw
中国人が本気で作ったものより、日本人が手を抜いた商品のがいいのは常識。
さっさと国に帰ってくれw
>>10 だからって、手を抜いて作ったもので人生掛けて仕事したいと思わんけどな。
「手を抜いて」 って 自分で言ってるじゃん
経費削減、人件費削減・・ 派遣企業フル活用 ってそんなもの。
12 :
名刺は切らしておりまして:2009/08/26(水) 22:28:10 ID:9u0f8rD7
NSRあればいいのよ