【半導体】IEDM 2007にて　Intel、45nmプロセスの詳細を発表［07/12/12］

1 ：やるっきゃ騎士φ ★：2007/12/13(木) 10:22:28 ID:???

IEDM 2007にて11日、Intelによる量産45nmプロセス技術についての発表があった。
講演のタイトルは「A 45nm Logic Technology with High-k+Metal Gate Transistors,
Strained Silicon, 9 Cu Interconnect Layers, 193nm Dry Patterning, and
100% Pb-free Packaging」(講演番号10.2)。Intel初の45nmプロセス技術の学会発表と
あって、発表会場には大勢の聴衆が詰め掛けた。

Intelは45nmプロセスにおいて、次のような技術を導入している。
・High-Kゲート絶縁膜
・メタルゲート
・3世代目の歪シリコン技術
・Low-k層間絶縁膜"CDO"
・193nm ArFドライリソグラフィー

このうち、High-Kゲート絶縁膜とメタルゲートについては、2003年の秋という早い時期に
45nmプロセスでの採用がアナウンスされ、その後今年の1月に量産プロセスに実際に採用
されることが発表となった。さらに、45nmプロセス製品の発表と量産開始が先月アナウンス
されている。

High-Kゲート絶縁膜とメタルゲートの採用は、ゲートリークの大幅な削減と、短チャネル効果の
抑制、ならびに駆動電流の向上などの効果を生む。High-Kゲート絶縁膜は従来発表されていた
通りハフニウム系の素材を用いており、EOT=1.0nm。メタルゲートの素材はnMOS用とpMOS用で
異なる素材を使っている。ゲートリークについては、一般的なSiONゲート絶縁膜と
ポリシリコンゲートを採用している65nmプロセスと比較して、nMOSについて25倍以上、
pMOSについては1000倍以上のリーク削減効果が実証された。配線層については、
メタル1層-7層まではLow-k層間絶縁膜のCDOを採用、メタル8層についてはSiO2、メタル9層に
ついてはポリマーの層間絶縁膜を使っている。

さて、注目のトランジスタのパフォーマンスだが、素晴らしい成果を示した。
nMOSはIon=1360μA/μm、pMOSはIon=1070μA/μmとなった。
いずれもIoff=100nA/μm、Vdd=1.0V、Lg=35nmである。
65nm世代に比較して、nMOSで12%、pMOSで51%の性能向上を果たしたという。
特にpMOSのパフォーマンスアップが著しい。

この45nmプロセスを用いて製造した153MbのSRAMチップの動作速度を検証したところ、
0.8Vで2GHz、1.1Vで3.8GHz、1.3Vで4.7GHzでの動作が確認されたという。
最後に量産工程におけるイールドカーブが示されたが、従来にまして順調に歩留まりが
向上しているグラフが示された。

Intelはこの45nmプロセスを65nmプロセスと同じ193nm ArFドライリソグラフィー装置で
実現しているところはコスト削減の観点から注目される。半導体製造はF1のような技術の
チャンピオンを競う世界ではなく、コストパフォーマンスが極めて重視される。技術はコストを
含めて評価するという当たり前の視点を大切にしたい。

ソースは
http://journal.mycom.co.jp/articles/2007/12/12/iedm2/index.html
Intel 45nm(IEDM 2007) とIntel 65nm(IEDM 2005)の比較の表はソース参照して下さい。
依頼を受けてたてました。

2 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/13(木) 10:26:35 ID:atX9nrnd

最近のintelは良いintel

3 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/13(木) 10:34:49 ID:jaYAHc1S

大昔のメタルゲートに先祖帰りだな

4 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/13(木) 15:34:09 ID:Chg3wDUd

HfO2をやはり使うのか、ここまでシュリンクすると
pMOS nMOSどちらも特性が違うから、それを補う工夫は当然出てくるだろう
しかし　ドライリソでフォトが出来る技術の方がびびった。
ASMの装置かな？

5 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/13(木) 15:51:32 ID:HMk06uht

日本でないのは確か

6 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/13(木) 16:41:33 ID:Chg3wDUd

メタルゲートの素材はnMOS用とpMOS用で
異なる素材を使っている。ゲートリークについては、一般的なSiONゲート絶縁膜と
ポリシリコンゲートを採用している65nmプロセスと比較して、nMOSについて25倍以上、
pMOSについては1000倍以上のリーク削減効果が実証された

これのゲート膜の成膜技術に興味が有るな　しかし凄い

将来はこうなるんだろうと10年前から思ってたんだが、やはり別々になったのだな
限界は近そうだな

7 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/13(木) 17:21:50 ID:9O7YJzzr

スキャナはASMLなのか？

8 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/14(金) 00:30:52 ID:6E4+94wN

Intel、量産用45nmプロセスの詳細を公表
http://pc.watch.impress.co.jp/docs/2007/1212/iedm03.htm

【IEDM】Intelが驚きのデータ，「high-k/メタル・ゲートで特性バラつきは減る」
http://techon.nikkeibp.co.jp/article/NEWS/20071213/144157/

9 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/14(金) 00:54:01 ID:F1Ui+15Y

＞Ion=1070μA/μm
インテルのはこんなに流れるのか。すごいな。
うちのはハイエンドむけでも700μAぐらいだったから
負けるのは当然か。

10 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/14(金) 03:23:33 ID:h+xdgDOX

基板はPなのかな Nなのかなどちらの基板を使うのかな

11 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/14(金) 05:09:45 ID:zbmbPzT5

AMDもがんばってくれないとCore2Quadが安くならない！

12 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/14(金) 05:50:53 ID:Q44hI1yu

もうAMDの事は諦めた方が良い。
再来年頃に石が高止まりしたら頭打ちと唱えよ。
あなたは直ちに1d5の癒しを得るであろう…。

13 ：みどりっぽい人 ◆DznQWt.uDw ：2007/12/14(金) 06:07:06 ID:flJvZFcm

IntelはNikonじゃなかったかなあ
ASMLは若干性能劣って、Canonは周回遅れというのが評価だったような

14 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/14(金) 10:39:29 ID:h+xdgDOX

クリチカルレイヤーの露光機は何処が開発出来たのか知りたいな

それにドライ装置も気になるな

9層もあるレイヤーなんて応力でクラック起きそうだよな

15 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/14(金) 10:56:30 ID:afyj91NR

>>6
発表聞きました。デュアルメタルでゲートラストね。

16 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/14(金) 11:02:48 ID:h+xdgDOX

特性から行くとpMOSとnMOSでは動作にズレが必ず発生するからな
だから製造過程で苦労するからな上手くどちらかが動作しないとかな
最後だな

17 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/14(金) 11:26:03 ID:TyWgLqPS

さっさと、10nmプロセス、5nmプロセスぐらいのチップ作れよ

18 ：J('A& ◆XayDDWbew2 ：2007/12/14(金) 11:33:24 ID:ckNLFjU6

>>17
ゲートの膜厚は何pmですか…

19 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/14(金) 11:50:03 ID:h+xdgDOX

先にゲート膜の限界が来るから細くしても意味が無いんだよな

半導体の限界は幅より高さに有るんだな

アスペクト比が大きくなり杉は危険

20 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/14(金) 12:05:02 ID:4bYEVwcP

正直、64bitの方を安くして欲しいんだが。

21 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/14(金) 12:10:23 ID:87IFc+rO

>>20
これの開発と設備投資額で価格は決まるだろ
後は歩留まりが問題だな

22 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/14(金) 12:24:47 ID:5JwRc64f

液浸だとばっかりおもってたよ。びく～り

23 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/14(金) 12:35:20 ID:87IFc+rO

そりゃ今の設備をこのプロセスまで使うと言う意味なんだよ

おそらく65nmの装置を生かすためで次世代は液浸だろな
設備投資額を押さえ込めばコスト競争で勝てるからとふんだんだろう

24 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/14(金) 15:22:28 ID:/DZQNSKh

>>22
液浸は既存の設備で65nmを切れない所が入れ替える時の選択装置

25 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/16(日) 00:04:49 ID:vMjz/TLQ

いいかげんÅ単位に移行しろよ

26 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/17(月) 01:20:38 ID:43OelWgS

馬鹿かその単位は使えないんだよ
単位は統一されたんだよ

27 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/17(月) 02:06:23 ID:w9D7hkLv

微細化って10年後には10nmとかでも出来るようになるの？

28 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/17(月) 02:30:15 ID:m/nEC6gX

10nmじゃ、もうゲート膜厚をどのくらい迄薄く出来るんだろうか？
ましてやアスペクト比が凄く大きそうだな

29 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/17(月) 19:04:24 ID:1hdDCAhM

32nmまでは見えたといっていいのかな

30 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/17(月) 19:05:56 ID:43OelWgS

行くんだと思うなしかし歩留まりはどうなんだろかな

31 ：展示：2007/12/18(火) 13:43:17 ID:/j3Jmixl

波に乗ったら無料視聴者はいらんてことだろ。
よくある話。

32 ：あどれす：2007/12/19(水) 02:46:39 ID:5bbg/ptb

森トラストか期待できないな高層ビル

33 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/19(水) 03:05:48 ID:JEjzly1p

SRAM早すぎ

34 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/19(水) 03:37:53 ID:LVZ9FLsQ

移動度ってどうなってんだろ？

ところでSRAM0.346μm2ってでかくない？
量産だから？ドライだから？こんなもの？

35 ：すてー：2007/12/20(木) 00:12:37 ID:8rRMEw4y

確かに名古屋駅から国際センターとか、矢場町から久屋大通くらいは普通に歩くな。
ただ名古屋駅から笹島までと言われると、何か抵抗感があるかな。
距離的にはそんなにないのにね。
心理的なものだろうから、何か変われば普通に歩くんだろうけど。

まあ無理だろうけど、ほんとJRには新駅作って欲しいよ。

36 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/21(金) 01:32:22 ID:JlY5ESAs

仕方無い

37 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/21(金) 23:54:55 ID:CUS2FTQ7

トヨタのリコールって、３月９月の決算期は避けるよね

38 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/22(土) 18:43:14 ID:QCBb20nz

東陽町とか浜松町には嫌な思い出しかないわ・・・

39 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/22(土) 21:12:39 ID:QCBb20nz

>>27
試しにディーラー何社か行ってみたら。カタログ取り寄せるとか。
対応が良いのは間違いなくとトヨタ。トヨタは営業マンの教育とか徹底してるよ。
ちなみにスバルはダメダメだったw
車の良し悪しは人それぞれあるだろうから、何とも言えないかな。

40 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/22(土) 22:35:17 ID:QCBb20nz

俺は白岩じゃボケ！

41 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/23(日) 00:38:03 ID:/PqmH60Q

>>165
クラウンでさえ
欠陥だとは
トヨタは終わりなのか？

42 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/23(日) 16:47:04 ID:FjVaa2eY

解決策は「中国人かインド人を輸入しろ」でいいのかな

43 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/23(日) 18:45:03 ID:FjVaa2eY

>>39

でも、日本の置かれた現実はこうなわけで
http://business.nikkeibp.co.jp/article/topics/20070510/124459/

44 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/23(日) 22:05:23 ID:KRiKFoJa

そんな貴方達にスマートイコカエキスプレスE予約対応カード

45 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/23(日) 22:26:20 ID:FjVaa2eY

> ガキの使いぐらい
これが一番つまらない

46 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/24(月) 05:48:44 ID:aex51Y1N

昨日TBSでハマコー出ててこの道路はハマコーの郷土愛とかいって賛美してたぞ

47 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/24(月) 07:45:03 ID:aex51Y1N

ヤヌスの鏡の分身新幹線なつかしい

48 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/26(水) 02:50:11 ID:OPbwTx8s

微細化は厳しいからな

49 ：模：2007/12/27(木) 07:20:54 ID:UjvI8q3o

>>48
>名古屋地区１位の百貨店、松坂屋本店の年間売上高（平成１８年度は１３９９億円）に
>匹敵する額で「地域経済にとって決して無視できない規模」（研究所）になっているという。

松坂屋がこれで儲かっているとは一言も書いてない

50 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/28(金) 01:20:05 ID:WD2mP5jY

日本はまだまだ追い付けないね

51 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/28(金) 08:35:25 ID:bYScIf/f

日本の新聞に、中国は技術を盗んだと書かれて世界に恥をさらけ出されてるんだぞ、中国は。

日本はこんな屈辱には耐え切れないだろ。

反論があるなら中国は何か言ってくるはずだ。

何も反論がなければ、中国という国家自体ドロボウ国家だと認識すればよいだけ

52 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/28(金) 09:36:11 ID:bYScIf/f

放送した番組を全部購入できるシステムにすれば、
録画できなかった人への不正コピー販売とか減るんじゃね？

おれは地上波録画してもダビングして残すほどのものは見てないし
あんまり興味ないけど

53 ：写：2007/12/28(金) 20:41:22 ID:BJGgQtDN

680 名前: 名無しさん＠編集中 Mail: sage 投稿日: 2007/12/27(木) 19:44:45 ID: HhTOT75Z
丸も氏のレポ読むと結局このデジコピブロックシステム誰が言いだした
ことなんだかわからない。
「デジタル放送開始でコピーが出回るのは困りますな」
「じゃ、適当な組織を作ってその対策をしましょう」
「官僚の天下り先の組織を造り、適当なプロテクト方法を策定し、メーカーに守らせましょう」
「あまり金のかかる方法じゃ困るんだが」
「そのへんは適当にやりましょう」
てなぐあいに作ったような。

54 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/29(土) 08:25:18 ID:PHmq9pA5

地上Dで録画したいものなんてあるか？
高画質で映画をみれるとかいってるのかな、
でも、DVDやブルーレイがあるｗ
番組がインターネットにアップされるのがいやとかいっても、
そんなのどうにでもなるのにな

55 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/29(土) 14:34:59 ID:PHmq9pA5

>>76
つか　カードの固有番号と　TVの固有番号をICチップ化して
発行して　そのTVでしか使えないとかじゃないんだよなこれ。

何のためにあるのかよくわからん。

56 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/30(日) 05:45:45 ID:CxbvgpXa

TVは見るもんじゃなく眺めるもんだって聞いたが、
たまに、眺めてたら不快になるんだ。

57 ：名刺は切らしておりまして：2007/12/30(日) 14:55:20 ID:FQuzvmdz

鬱になるならなるでいいからキッチリ辞めろ
「中途半端に逃げたくない」だの
「職場復帰したら死ぬ気で頑張る」だの
綺麗事の建て前でダラダラ籍だけ残すとか止めろや
キッチリ給料出てんの知ってんだよ